1.一种连续流动微射流均质设备，包括支撑部件（1），所述支撑部件（1）的前端上固定安装有分散器（3）和对位部件（2），且所述对位部件（2）位于分散器（3）的前端，所述分散器（3）的顶端固定安装有传输管道（4），其特征在于：所述支撑部件（1）包括同步装置（5）和传动装置（6），所述同步装置（5）对称固定安装在传动装置（6）的顶部前端，所述传动装置（6）包括微射流均质设备主体（13）、第一齿条（14）、放置底座（15）、接收量杯（16）、延伸基架（17）、对接管头（18）、第四齿轮（19）、第二齿条（20）和液压气缸（21），所述液压气缸（21）对称固定安装在微射流均质设备主体（13）的顶端，所述放置底座（15）固定安装在液压气缸（21）的前端，所述接收量杯（16）滑动插接在放置底座（15）的顶端上，所述第一齿条（14）对称固定安装在放置底座（15）远离接收量杯（16）的顶端上，所述第四齿轮（19）转动安装在延伸基架（17）相对的侧端，所述第二齿条（20）的顶端滑动套接在延伸基架（17）的顶端上，所述对接管头（18）固定安装在两个所述第二齿条（20）之间；

所述同步装置（5）包括导向轮（7）、收卷轮（8）、第一齿轮（9）、支撑基架（10）、第二齿轮（11）和第三齿轮（12），所述第三齿轮（12）和第二齿轮（11）转动安装在支撑基架（10）的右侧顶端，且所述第三齿轮（12）位于第二齿轮（11）的前方，所述第一齿轮（9）固定安装在第二齿轮（11）的左侧中心，所述收卷轮（8）固定安装在第三齿轮（12）的左侧中心，所述导向轮（7）转动安装在支撑基架（10）的左侧前端；

所述对位部件（2）包括下沿装置（22）和接收装置（23），所述下沿装置（22）固定安装在接收装置（23）的顶端；

所述下沿装置（22）包括连接绳（24）、喷嘴（25）、覆盖盘（26）、竖管（27）、支撑顶盘（28）和电磁水阀（29），所述连接绳（24）对称固定安装在支撑顶盘（28）的底部后端，所述电磁水阀（29）固定安装在支撑顶盘（28）的顶端中心，所述竖管（27）固定安装在电磁水阀（29）的底端，所述喷嘴（25）固定安装在竖管（27）的底端，所述覆盖盘（26）滑动套接在竖管（27）的外圈上；

所述接收装置（23）包括延伸侧架（30）、复位弹簧（31）、按钮开关（32）、收纳腔体（33）和单向阀（34），所述复位弹簧（31）固定安装在延伸侧架（30）的顶部前端，且所述复位弹簧（31）呈环形分布，所述单向阀（34）固定安装在延伸侧架（30）的底部前端，所述收纳腔体（33）固定安装在单向阀（34）的顶端，所述按钮开关（32）固定安装在收纳腔体（33）的两侧顶端；

所述支撑基架（10）对称固定安装在微射流均质设备主体（13）的顶部前端，所述连接绳（24）远离喷嘴（25）的一端连接在收卷轮（8）上，所述复位弹簧（31）的顶端与支撑顶盘（28）的底端连接，所述单向阀（34）固定安装在微射流均质设备主体（13）的前端顶部；

所述对接管头（18）与传输管道（4）水平对齐，所述第三齿轮（12）与第二齿轮（11）啮合，且所述第二齿轮（11）与第三齿轮（12）的传动比为1:10，所述第一齿轮（9）的顶端与第二齿条（20）的底端对齐。

2.根据权利要求1所述的一种连续流动微射流均质设备，其特征在于：所述收纳腔体（33）的顶端外圈固定安装有铁圈，所述延伸侧架（30）的顶端开设有与竖管（27）相适配的孔洞，所述按钮开关（32）与电磁水阀（29）存在电性连接。

3.根据权利要求2所述的一种连续流动微射流均质设备，其特征在于：所述第二齿条（20）和第一齿条（14）分别于第四齿轮（19）啮合，所述接收量杯（16）、对接管头（18）和传输管道（4）垂直对齐，所述覆盖盘（26）的底端固定安装有磁圈。

4.根据权利要求3所述的一种连续流动微射流均质设备，其特征在于：所述放置底座（15）包括塑胶垫片（35）、支撑竖板（36）和螺纹杆（37），所述塑胶垫片（35）固定安装在放置底座（15）的顶部两侧，所述螺纹杆（37）螺纹插接在支撑竖板（36）的侧端中心，所述塑胶垫片（35）固定安装在螺纹杆（37）相对的一端中心。