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专利号: 2024111266939
申请人: 电子科技大学中山学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-12-08
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种光辅助硒化铋拓扑绝缘体材料二氧化氮传感装置,包括基底、叉指电极、硒化铋拓扑绝缘体材料层,所述叉指电极置于所述基底上,所述硒化铋拓扑绝缘体材料层覆盖所述叉指电极,其特征在于,还包括紫外光源,所述紫外光源发出紫外光,所述紫外光照射所述硒化铋拓扑绝缘体材料层;还包括二氧化钛纳米颗粒,所述二氧化钛纳米颗粒分散在所述硒化铋拓扑绝缘体材料层中,所述二氧化钛纳米颗粒的尺寸不均匀。

2.如权利要求1所述的光辅助硒化铋拓扑绝缘体材料二氧化氮传感装置,其特征在于:所述基底的材料为二氧化硅或三氧化二铝,所述叉指电极的材料为金或铂。

3.如权利要求1所述的光辅助硒化铋拓扑绝缘体材料二氧化氮传感装置,其特征在于:所述紫外光的波长为365纳米。

4.如权利要求1所述的光辅助硒化铋拓扑绝缘体材料二氧化氮传感装置,其特征在于:所述硒化铋拓扑绝缘体材料层为硒化铋纳米片。

5.如权利要求4所述的光辅助硒化铋拓扑绝缘体材料二氧化氮传感装置,其特征在于:所述硒化铋纳米片的直径大于200纳米、小于1微米,所述硒化铋纳米片的厚度大于3纳米、小于20纳米。

6.如权利要求1所述的光辅助硒化铋拓扑绝缘体材料二氧化氮传感装置,其特征在于:所述二氧化钛纳米颗粒的尺寸大于10纳米、小于100纳米。

7.如权利要求1所述的光辅助硒化铋拓扑绝缘体材料二氧化氮传感装置,其特征在于:所述紫外光倾斜照射所述硒化铋拓扑绝缘体材料层的表面。

8.如权利要求7所述的光辅助硒化铋拓扑绝缘体材料二氧化氮传感装置,其特征在于:所述倾斜的角度大于30度、小于60度。