1.一种聚合物，其特征在于，所述聚合物的重复单元的结构式如下所示：其中，n为20～1000；R选自萘、蒽、芘。

2.一种权利要求1所述的聚合物的制备方法，其特征在于，所述聚合物由化合物X与化合物VII芳基化缩聚得到；化合物VII和化合物X的结构式如下所示：

3.一种权利要求1所述的聚合物的制备方法，其特征在于，所述聚合物由化合物X与化合物VIII芳基化缩聚得到；化合物VIII和化合物X的结构式如下所示：

4.一种权利要求1所述的聚合物的制备方法，其特征在于，所述聚合物由化合物X与化合物IX芳基化缩聚得到；化合物IX和化合物X的结构式如下所示：

5.权利要求1所述的一种聚合物在光学显示、传感器和3D编码信息存储领域中的应用。

6.一种薄膜，其特征在于，包括基材，以及通过溶液加工成膜的方式形成在基材表面的电致变色层；所述电致变色层采用权利要求1中的聚合物材料。

7.根据权利要求6所述的一种薄膜，其特征在于，所述溶液加工成膜中采用的溶剂为二氯甲烷、三氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、二甲基甲酰胺中的任一种。

8.根据权利要求6所述的一种薄膜，其特征在于，所述基材选自氧化铟锡导电玻璃、氧化氟锡导电玻璃和聚对苯二甲酸乙二醇酯导电基板中的任一种。

9.一种器件，其特征在于，包含有权利要求6～8任一项所述的薄膜。