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专利号: 2024104952229
申请人: 深圳市几维设计有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-05-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.容器清洁设备,其特征在于,包括主机、清洁装置、驱动装置以及供水装置,所述清洁装置和所述驱动装置分别安设在所述主机;所述清洁装置包括置放结构、内刷件和外刷件,所述内刷件安设在所述置放结构,且所述置放结构用于放置容器,所述内刷件用于清洗容器的内壁,所述外刷件用于清洗容器的外壁,所述驱动装置用于驱动所述置放结构呈转动布置;所述置放结构具有内喷口,所述供水装置包括供水泵和供水管,所述供水泵用于供给水源至所述供水管,所述供水管与所述内喷口呈连通布置,所述内喷口用于朝外喷出水源;

所述主机包括盖压结构,所述盖压结构与所述置放结构呈上下对应布置,所述盖压结构用于抵压容器,且所述盖压结构与所述置放结构用于夹持定位容器。

2.如权利要求1所述的容器清洁设备,其特征在于,所述置放结构包括置放杆、清洁杆以及内喷管,所述内喷管形成所述内喷口,所述内刷件安设在所述清洁杆,由外至内方向,所述清洁杆、所述置放杆和所述内喷管呈依序套设布置,所述置放杆用于放置容器;所述驱动装置包括驱动轮和减速结构,所述驱动轮与所述清洁杆呈组装布置,所述驱动轮用于接收驱动力促使所述清洁杆呈转动布置,所述清洁杆和所述置放杆分别与所述减速结构呈传动布置,所述减速结构用于降低转速,所述清洁杆的转速大于所述置放杆的转速。

3.如权利要求2所述的容器清洁设备,其特征在于,所述置放杆的上部具有至少一个出水槽,所述出水槽呈贯通布置,所述内喷管的内部形成供水通道和至少一个横喷射通道,所述横喷射通道沿径向方向呈延伸布置,所述横喷射通道的内端与所述供水管呈连通布置,所述横喷射通道的外端形成所述内喷口,所述内喷口与所述出水槽呈对应布置,所述供水通道与所述供水装置呈连通布置,水源沿所述供水通道、所述横喷射通道、所述内喷口和所述出水槽呈喷出布置。

4.如权利要求2所述的容器清洁设备,其特征在于,所述减速结构包括始减速组、至少一个中减速组以及终减速组,所述始减速组包括始大齿轮和始小齿轮,所述始大齿轮的齿数大于所述始小齿轮的齿数,所述中减速组包括中大齿轮和中小齿轮,所述中大齿轮的齿数大于所述中小齿轮的齿数,所述终减速组包括终大齿轮和终小齿轮,所述终大齿轮的齿数大于所述终小齿轮的齿数;所述始小齿轮与所述清洁杆呈组装布置,所述始小齿轮与所述中大齿轮呈啮合布置,所述中大齿轮和所述中小齿轮呈同步转动布置,所述中小齿轮与所述终大齿轮呈啮合布置,所述终大齿轮和所述终小齿轮呈同步转动布置,所述终小齿轮与所述始大齿轮呈啮合布置,所述始大齿轮与所述置放杆呈组装布置。

5.如权利要求2‑4任意一项所述的容器清洁设备,其特征在于,所述置放结构包括垫块,所述垫块安设在所述置放杆的顶部布置,且所述垫块延伸至所述置放杆的上方布置,所述垫块呈弹性布置,所述盖压结构与所述垫块呈上下夹持定位容器。

6.如权利要求1‑4任意一项所述的容器清洁设备,其特征在于,所述供水装置包括外供管,所述外供管呈纵向布置,所述外供管与所述供水管呈连通布置,所述外供管具有至少一个外喷口,所述外喷口用于朝外喷射水源;所述外喷口与所述外刷件呈对应布置,或者,所述外喷口与所述容器的外壁呈对应布置;或者,所述外喷口用于同步喷射水源至所述外刷件和所述容器的外壁。

7.如权利要求1‑4任意一项所述的容器清洁设备,其特征在于,所述驱动装置包括驱动电机、中驱杆,主驱轮以及同步带,所述驱动电机与所述中驱杆呈组装布置,且所述驱动电机用于驱动所述中驱杆呈转动布置,所述主驱轮与所述中驱杆呈组装布置,所述外刷件安设在所述中驱杆,所述中驱杆用于带动所述主驱轮和所述外刷件分别呈转动布置,所述同步带分别与所述主驱轮和所述驱动轮呈啮合传动布置。

8.如权利要求1‑4任意一项所述的容器清洁设备,其特征在于,所述主机包括支架、多个稳固架以及多个减震件,所述支架呈横置布置,且所述稳固架与所述支架呈组装布置,杆轴承活动安设在所述稳固架,所述清洁杆贯穿所述杆轴承,且所述清洁杆与所述杆轴承呈活动连接布置,所述稳固架用于加固所述清洁杆;所述减震件安设在所述支架,所述减震件呈弹性布置,支杆的下部呈固定布置,所述支杆的上部贯穿所述减震件,且所述支杆用于支撑安设所述支架。

9.如权利要求1‑4任意一项所述的容器清洁设备,其特征在于,所述主机包括机壳,所述盖压结构与所述机壳呈组装布置,且所述盖压结构与所述机壳呈盖合或开启布置;所述盖压结构包括至少一个抵压组件,所述抵压组件包括抵压件和抵压簧,所述抵压簧的上部呈固定布置,所述抵压簧的下部与所述抵压件呈连接布置,所述抵压簧用于施加下压力至所述抵压件,所述抵压件用于抵压容器,且所述抵压件与所述置放结构用于夹持定位容器。

10.如权利要求9所述的容器清洁设备,其特征在于,所述盖压结构包括至少一个盖轴承,所述盖轴承与所述抵压组件呈一一对应布置,所述盖轴承与所述抵压组件呈组装布置,所述抵压组件接收转动力带动所述盖轴承呈转动布置。