1.一种杂化硅溶胶光催化抗菌涂层的制备方法，包括以下步骤：

1）制备聚合物：以质量比为 4 : 3 : 1 : 51 : 20的Tin试剂、二溴化羧基噻吩、催化剂、已除氧的无水甲苯和除水除氧的DMF为原料，在N2保护下加入到双口烧瓶中，温度控制在100 120℃，反应时间控制在48 72 h，搅拌速度800 r/min，反应结束后，待反应液冷却至~ ~室温，将反应液移入到茄形瓶中旋蒸，加乙醇沉降后过滤，再用乙醇和丙酮索提除杂，最后干燥得到噻吩基聚合物；

其中，所述Tin试剂为5,5'‑双（三甲基锡烷基）‑2,2'‑联噻吩，所述催化剂为四三苯基膦钯，所述二溴化羧基噻吩为2,5‑二溴‑3‑羧基噻吩或2,5‑二溴‑3,4‑二羧基噻吩，当二溴化羧基噻吩为2,5‑二溴‑3‑羧基噻吩时，得到的噻吩基聚合物是PD‑COOH，当二溴化羧基噻吩为2,5‑二溴‑3,4‑二羧基噻吩时，得到的噻吩基聚合物是PD‑(COOH)2；

2）制备杂化溶胶：以质量比为10 : 4 : 3的PVA、TEOS或/和TBOT、封端剂为原料，采用水解法和热聚合方法进行制备，首先配制浓度为1 wt% 8 wt%的PVA水溶液，然后将乙醇、去~离子水、12 mol/L的浓盐酸按质量比360 : 18 : 5混合后加入 TEOS或/和TBOT，按质量比混合溶剂：TEOS或/和TBOT = 5 : 1 ，常温搅拌3‑5 h获得无机溶胶；将PVA水溶液和无机溶胶质量比3 : 1混合搅拌，升温至80 ℃后加入封端剂，封端剂与PVA质量比为1 10：25，继续~搅拌4‑5 h，得到无机杂化溶胶；

其中，所述PVA是PVA‑1788，所述封端剂是N‑羟甲基丙烯酰胺和N,N'‑亚甲基双丙烯酰胺中的一种或两种混合；

3）采用热聚合方法在聚合物与杂化硅溶胶间成键进行抗菌溶胶涂料的制备：将噻吩基聚合物的邻二氯苯溶液加入到无机杂化溶胶中，60 ℃下搅拌9 12 h，将溶胶涂敷在玻璃板~

100 ℃烘干3‑4 h得到杂化硅溶胶光催化抗菌涂层；所述杂化硅溶胶光催化抗菌涂层，以噻吩基聚合物作为活性组分，无机杂化溶胶作为载体，所述噻吩基聚合物为PD‑(COOH)2或PD‑COOH，无固定形貌；所述载体是无机杂化硅溶胶或无机杂化硅钛溶胶，按质量比噻吩基聚合物：无机杂化溶胶=3 5:7。

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2.根据权利要求1所述的一种杂化硅溶胶光催化抗菌涂层的制备方法，其特征在于，所述噻吩基聚合物为PD‑COOH；所述无机杂化溶胶为无机杂化硅溶胶。

3.根据权利要求1所述的一种杂化硅溶胶光催化抗菌涂层的制备方法，其特征在于，步骤1）中所述二溴化羧基噻吩为2,5‑二溴‑3‑羧基噻吩，步骤2）中所述封端剂是N‑羟甲基丙烯酰胺。