1.一种二维材料表面褶皱阵列结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，将二维材料置于衬底表面，对样品进行图形化处理，将二维材料制备成条带状或者圆环状；条带状的宽度为0.1‑5微米，长与宽的比值大于10；

步骤2，将样品进行温度变化处理，形成相互平行的褶皱阵列结构；

步骤1中，所述二维材料为六方氮化硼或石墨烯中的一种，所述二维材料置于衬底表面的方法为机械剥离法或化学气相沉积法中的一种，所述二维材料图形化处理的方法为微纳加工或探针直写；

步骤2中，所述温度变化处理为升温处理或降温处理，升温处理为将样品放置到管式炉中进行加热，加热温度为500‑1500℃，所述降温处理为将样品放置到液氮中进行直接降温，降温的温度范围值为‑100℃‑‑200℃。