1.一种搅拌均匀的化工用反应釜，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)顶部的右侧固定连接有支撑板(2)，所述支撑板(2)右侧的中心处固定连接有壳体(3)，所述壳体(3)内壁的背面固定连接有第一电机(4)，所述第一电机(4)的输出端固定连接有半边齿轮(5)，所述半边齿轮(5)的顶部啮合有齿条板(6)，所述齿条板(6)顶部的右侧固定连接有限位板(7)，所述限位板(7)的左侧固定连接有第一复位弹簧(8)，所述第一复位弹簧(8)的左端与支撑板(2)的右侧固定连接，所述齿条板(6)的左端贯穿至支撑板(2)的左侧并固定连接有反应釜箱(9)，所述反应釜箱(9)顶部的中心处固定连接有第二电机(10)，所述第二电机(10)的输出端固定连接有旋转杆(11)，所述旋转杆(11)的底端贯穿至反应釜箱(9)的内腔，所述旋转杆(11)的表面固定连接有搅拌叶(12)，所述反应釜箱(9)顶部的左侧连通有加料管(13)，所述加料管(13)的顶部螺纹连接有螺纹盖(14)，所述反应釜箱(9)左侧的底部连通有排料管(15)，所述排料管(15)的内腔连通有排料阀(16)，所述反应釜箱(9)右侧的顶部和底部均固定连接有移动柱(17)，所述移动柱(17)的右端贯穿至支撑板(2)的右侧并固定连接有限位块(18)，所述移动柱(17)的表面套设有第二复位弹簧(19)。

2.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的化工用反应釜，其特征在于：所述底板(1)的顶部开设有第一滑槽(20)，所述第一滑槽(20)内腔的两侧均滑动连接有第一滑块(21)，所述第一滑块(21)的顶部与反应釜箱(9)的底部固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的化工用反应釜，其特征在于：所述壳体(3)内壁的顶部开设有第二滑槽(22)，所述第二滑槽(22)的内腔滑动连接有第二滑块(23)，所述第二滑块(23)的底部与限位板(7)的顶部固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的化工用反应釜，其特征在于：所述支撑板(2)内腔的顶部和底部均开设有贯穿槽，且贯穿槽内腔的直径大于移动柱(17)的直径。

5.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的化工用反应釜，其特征在于：所述支撑板(2)内腔的中心处开设有通槽，且通槽内腔的宽度和高度均大于齿条板(6)的宽度和高度，所述齿条板(6)的长度大于通槽内腔的长度。

6.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的化工用反应釜，其特征在于：所述第二复位弹簧(19)的左端与支撑板(2)的右侧固定连接，所述第二复位弹簧(19)的右端与限位块(18)的左侧固定连接。