1.一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于，包括箱体(1)，所述箱体(1)的底部安装有储液箱(2)，所述储液箱(2)的内部安装有喷洗机构(3)，所述箱体(1)的内部安装有升降板(4)，所述升降板(4)的上表面连接有驱动箱(5)，所述驱动箱(5)的内部安装有刷洗机构(6)，所述驱动箱(5)的上表面与箱体(1)之间连接有升降机构(7)；

所述刷洗机构(6)包括安装在驱动箱(5)内部的清洗电机(601)，所述清洗电机(601)的输出端连接有驱动轴(602)，所述驱动轴(602)上安装有锥齿轮一(603)，所述驱动箱(5)的底部套设有转轴(604)，所述转轴(604)的顶端安装有锥齿轮二(605)，所述锥齿轮二(605)与锥齿轮一(603)之间相啮合，所述转轴(604)的底端连接有毛刷(606)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述升降机构(7)包括安装在箱体(1)一侧的驱动电机(701)，所述驱动电机(701)的输出端连接有螺纹杆(702)，所述螺纹杆(702)上螺纹连接有滑块(703)，所述滑块(703)上安装有铰接座一(704)，所述驱动箱(5)的上表面安装有铰接座二(705)，所述铰接座二(705)与铰接座一(704)之间铰接有活动杆(706)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述喷洗机构(3)包括安装在储液箱(2)底部的循环泵(301)，所述循环泵(301)的出水口连接有送水管(302)，所述送水管(302)的另一端伸入箱体(1)内部连接有冲洗喷头(303)，所述储液箱(2)的内部安装有过滤网(304)。

4.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述箱体(1)的内壁上设有导轨(101)，所述升降板(4)的两端连接有辅助块(102)，所述辅助块(102)在导轨(101)上滑动。

5.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述储液箱(2)的上表面设有放置槽(201)，所述放置槽(201)之间设有漏水孔(202)。

6.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述箱体(1)的下表面固定连接有支撑座(8)。