1.一种化学工程用污水处理装置，包括：印染设备本体、与印染设备本体连通的集成箱、与集成箱连通的过滤罐一、与过滤罐一连通的过滤罐二；其特征在于，所述集成箱的内部左右分布有过渡区与沉淀区，所述过渡区与沉淀区之间设有挡板；所述挡板与集成箱的内顶部之间设置有用于过滤的过滤组一，所述集成箱的顶部开设有与过滤组一适配的清洁口；所述集成箱的底部安装有驱动件，所述挡板的内部开设有升降空间，所述驱动件的输出轴贯穿集成箱的底部后延伸至升降空间内。

2.根据权利要求1所述的化学工程用污水处理装置，其特征在于，所述过滤组一包括板框，所述板框靠近过渡区的一端安装有粗滤网，所述板框靠近沉淀区的一端安装有细滤网，所述粗滤网与细滤网之间间隔有集污区。

3.根据权利要求2所述的化学工程用污水处理装置，其特征在于，所述集污区内水平滑动设有拱形的刮板。

4.根据权利要求3所述的化学工程用污水处理装置，其特征在于，所述刮板的一侧设有握把。

5.根据权利要求4所述的化学工程用污水处理装置，其特征在于，所述升降空间内设置有与过滤组一结构相同的过滤组二，所述过滤组一的底部与过滤组二的顶部连接。

6.根据权利要求5所述的化学工程用污水处理装置，其特征在于，所述过滤组二的板框底部及驱动件的输出轴尾端均安装有电磁铁。