1.一种薄膜制备装置，其特征在于：包括雾化罐(1)、缓冲罐(23)、反应腔体(8)和加热台(7)，所述雾化罐(1)通过进气胶管(24)与所述缓冲罐(23)连通，所述缓冲罐(23)通过侧接头(22)与所述反应腔体(8)的进口端连通，所述加热台(7)位于所述反应腔体(8)下方用于给所述反应腔体(8)加热；所述反应腔体(8)内设有斜坡衬底托(19)，该斜坡衬底托(19)靠近所述反应腔体(8)进气口的一端的高度小于所述斜坡衬底托(19)靠近所述反应腔体(8)出气口的一端的高度，所述斜坡衬底托(19)的倾斜角度为5°‑30°，衬底置于所述斜坡衬底托(19)的斜坡表面。

2.根据权利要求1所述的一种薄膜制备装置，其特征在于：所述斜坡衬底托(19)靠近所述反应腔体(8)进气口的一端设有限位台阶(3)，该限位台阶(3)的厚度与所述衬底的厚度相同。

3.根据权利要求1所述的一种薄膜制备装置，其特征在于：所述斜坡衬底托(19)上设有热电偶通道(20)，该热电偶通道(20)沿前驱体溶液在所述反应腔体(8)内的流体方向贯穿所述斜坡衬底托(19)。

4.根据权利要求1所述的一种薄膜制备装置，其特征在于：所述雾化罐(1)包括罐体(111)，所述罐体(111)的顶部设雾化顶盖(10)，所述罐体(111)的底部设隔膜(110)，所述罐体(111)设于雾化罐底座(12)上，所述雾化罐底座(12)设于水罐(14)内，所述水罐(14)置于水罐底座(15)上，所述雾化罐底座(12)的中部设有向下延伸的安装部(121)，该安装部(121)上靠近所述罐体(111)的一端设雾化片(13)，所述安装部(121)与所述水罐底座(15)上的承接部(151)相匹配。

5.根据权利要求4所述的一种薄膜制备装置，其特征在于：还包括固定底座(17)，所述固定底座(17)上设散热风扇(16)，所述水罐底座(15)安装在所述固定底座(17)上。

6.根据权利要求1所述的一种薄膜制备装置，其特征在于：所述侧接头(22)的截面呈梯形，且所述侧接头(22)靠近所述缓冲罐(23)一端的截面面积小于所述侧接头(22)靠近所述反应腔体(8)一端的截面面积。

7.根据权利要求1所述的一种薄膜制备装置，其特征在于：还包括废液收集罐(26)，该废液收集罐(26)通过输运胶管(25)与所述缓冲罐(23)连通。