1.一种新型化学工程用设备清洗装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)顶部设置有风干机构(2)，所述箱体(1)内部设置有清洁机构(3)；

所述清洁机构(3)包括固定组件(31)与冲洗组件(32)，所述固定组件(31)设置在箱体(1)内侧，所述冲洗组件(32)设置在箱体(1)内部；

所述冲洗组件(32)包括环形限位条(324)，所述环形限位条(324)固定安装在箱体(1)左侧，所述环形限位条(324)内部滑动安装有双向异步电机(323)，所述双向异步电机(323)输出端转动安装有存储梁(321)，所述双向异步电机(323)输出端啮合有环形齿条(322)，所述存储梁(321)右侧固定安装有进水软管(325)，所述进水软管(325)远离存储梁(321)一端固定安装有高压水泵(326)；

所述高压水泵(326)固定安装在箱体(1)右侧，所述环形齿条(322)固定安装在箱体(1)左侧，所述箱体(1)左侧与右侧均开设有环形槽，所述存储梁(321)滑动安装在环形槽内部，所述箱体(1)右侧内壁固定安装有紫外线消毒管，所述存储梁(321)滑动安装在箱体(1)内壁上。

2.根据权利要求1所述的一种新型化学工程用设备清洗装置，其特征在于：所述风干机构(2)包括螺栓(23)，所述螺栓(23)螺纹安装在箱体(1)顶部，所述螺栓(23)外侧螺纹安装有过滤板(22)，所述箱体(1)顶部固定安装有矩形框架(21)，所述箱体(1)顶部内侧固定安装有风扇(24)。

3.根据权利要求2所述的一种新型化学工程用设备清洗装置，其特征在于：所述箱体(1)顶部开设有通风口，所述风扇(24)设置在通风口内部，所述螺栓(23)设置有四个，且四个所述螺栓(23)均贯穿过滤板(22)顶部。

4.根据权利要求1所述的一种新型化学工程用设备清洗装置，其特征在于：所述固定组件(31)包括转杆(317)，所述转杆(317)转动安装在箱体(1)右侧，所述转杆(317)左侧转动安装有卡盘(316)，所述卡盘(316)右侧固定安装有弹簧销(318)，所述卡盘(316)左侧固定安装有主动齿轮(315)，所述主动齿轮(315)外侧啮合有从动齿轮(319)，所述从动齿轮(319)左侧固定安装有支撑板(311)，所述支撑板(311)顶部滑动安装有滑动条(312)，所述滑动条(312)内部螺纹安装有多重双向螺纹杆(313)，所述支撑板(311)底部固定安装有底座(314)。

5.根据权利要求4所述的一种新型化学工程用设备清洗装置，其特征在于：所述支撑板(311)顶部开设有通孔，所述滑动条(312)顶部设置有卡扣，所述多重双向螺纹杆(313)右侧固定安装有转动手轮。