1.一种滤清器壳体用原料片清洁装置，它包括机架（1），其特征在于：在机架（1）上设有一组上层导柱（2）和一组下层导柱（3），在每根上层导柱（2）上均套设有一个上滑块（2a），在每个上滑块（2a）均设有上层轴承座（2b）；

在每根下层导柱（3）上均套设有一个下滑块（3a），在每个下滑块（3a）上均设有下层轴承座（3b），在一组上、下层导柱（2、3）上穿设的上、下层轴承座（2b、3b）上连接有至少一根动力辊（5）和一根清扫辊（6）；

在同侧的上、下滑块（2a、3a）上均延伸出安装板（4），在安装板（4）上设有与对应动力辊（5）或清扫辊（6）形成动力配合的电机（4a），在每个上、下滑块（2a、3a）两侧的导柱主体上均穿设有弹簧（7）。

2.根据权利要求1中所述的一种滤清器壳体用原料片清洁装置，其特征在于：在所述每根上层导柱（2）柱体上其沿轴向设有一组第一调整孔（8），在每组上层导柱（2）上均穿设有一块第一活动基板（9），设置一组与第一调整孔（8）对应配合的锁紧销，通过调整第一活动基板（9）的高度从而调整弹簧（7）的弹力。

3.根据权利要求1中所述的一种滤清器壳体用原料片清洁装置，其特征在于：在所述每根下层导柱（3）上其沿轴向也设有一组第二调整孔（10），在每组下层导柱（3）上均穿设有一块第二活动基板（11），设置一组与第二调整孔（10）对应配合的锁紧销，通过调整第二活动基板（11）的高度从而调整弹簧（7）的弹力。

4.根据权利要求1中所述的一种滤清器壳体用原料片清洁装置，其特征在于：在所述一组上、下层轴承座（2b、3b）上连接有若干动力辊（5）和若干清扫辊（6）。

5.根据权利要求4中所述的一种滤清器壳体用原料片清洁装置，其特征在于：所述动力辊（5）和清扫辊（6）为间隔分布。

6.根据权利要求4中所述的一种滤清器壳体用原料片清洁装置，其特征在于：所述连接在上、下层轴承（2b、3b）的上、下两个动力辊（5）和上、下两个清扫辊（6）为对应分布或错位分布。

7.根据权利要求1‑6中的任意一项中所述的一种滤清器壳体用原料片清洁装置，其特征在于：所述动力辊（5）和清扫辊（6）的旋转方向可相同或不同。