1.一种灌装托盘清洗装置，其特征在于，包括传送带、承载托盘和清洗组件；

所述清洗组件位于传送带的上方，所述承载托盘位于传送带上；

所述承载托盘上阵列分布有多个与灌装托盘对应的凹槽；

所述清洗组件包括机架、垂直往复件、平台、旋转电机、皮带以及数量与凹槽对应的清洁头；所述平台通过垂直往复件连接在机架上，所述旋转电机设置在平台上表面上；

所述清洁头包括转轴、刷头，所述转轴转动连接在平台上且与旋转电机传动连接；不同所述清洁头的转轴通过皮带传动连接；所述刷头位于转轴的末端。

2.根据权利要求1所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述刷头上具有刷毛，所述刷毛的长度大于凹槽的深度。

3.根据权利要求1所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述灌装托盘清洗装置还包括对准组件，所述对准组件包括对准杆和校位件；

所述对准杆设置在机架的底部前端上，所述校位件包括推杆和接触块，所述推杆位于机架底部的侧边，所述接触块位于推杆的末端，所述接触块朝向刷头设置。

4.根据权利要求3所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述校位件有两个，两个所述校位件镜像设置。

5.根据权利要求4所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述接触块朝向另一校位件的一面上设置有V型水平槽。

6.根据权利要求1所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述承载托盘的边沿设置有向外延伸的延伸部，所述延伸部的边沿做圆角处理。

7.根据权利要求1所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述转轴的末端开设有滑动槽；

所述刷头滑动连接在滑动槽上，所述转轴上还套设有弹簧，所述转轴上还设置有限位凸起，所述弹簧的一端与限位凸起相抵，另一端与刷头相抵。

8.根据权利要求1所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述传送带为滚轮传送带。

9.根据权利要求1所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述灌装托盘清洗装置还包括轨道组件，所述轨道组件包括滑块和导轨，所述导轨垂直连接在机架上，所述滑块与导轨配合，所述滑块设置在平台上。

10.根据权利要求9所述的灌装托盘清洗装置，其特征在于，所述轨道组件有四组。