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专利号: 2023216499298
申请人: 河源市璐悦自动化设备有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
更新日期:2026-08-12
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种自动对位自动调节曝光平台结构,包括底座,其特征在于,所述底座中设有通孔,通孔内设有升降机构,底座上设有横移模组,该横移模组的驱动端装设有底板,底板上设有支撑板,支撑板上设有滑块,滑块与滑轨连接,滑轨安装在立架上,立架顶部装设有顶板,底板上设有顶针,顶板上设有顶针孔,顶针从项针孔中活动穿过,顶板与升降机构连接,底板两侧分别设有视觉调节机构。

2.根据权利要求1所述的自动对位自动调节曝光平台结构,其特征在于,所述底板上设有下螺栓,该下螺栓连接有锁紧套筒,锁紧套筒上连接有上螺栓,上螺栓与连接块连接,顶针装在连接块上。

3.根据权利要求1所述的自动对位自动调节曝光平台结构,其特征在于,所述升降机构包括升降电机和丝杆,升降电机的驱动轴通过联轴器与丝杆连接,升降电机上装接有固定架,固定架与底板连接,丝杆上螺旋套装有螺母块,螺母块与移动架连接,移动架与顶板连接,固定架上设有轴承,丝杆从固定架的轴承活动穿过。

4.根据权利要求1所述的自动对位自动调节曝光平台结构,其特征在于,所述通孔设在底座的中心位置。

5.根据权利要求1所述的自动对位自动调节曝光平台结构,其特征在于,所述视觉调节机构包括X轴模组、Y轴模组、Z轴模组和检测器件,Y轴模组装在X轴模组上,Z轴模组装在Y轴模组上,检测器件装在Z轴模组上。

6.根据权利要求5所述的自动对位自动调节曝光平台结构,其特征在于,所述顶板上设有避让槽位,检测器件正对着该避让槽位。

7.根据权利要求1所述的自动对位自动调节曝光平台结构,其特征在于,所述底座为大理石材料制成。