1.一种研磨抛光装置，包括定位底板(1)，其特征在于：所述定位底板(1)一侧靠上端固定设置有支撑架(2)，所述支撑架(2)一侧靠上端固定设置有连接架(3)，所述定位底板(1)前后侧均开设有多个连接槽(8)，多个所述连接槽(8)内部两侧之间均转动设置有定位支撑机构(7)；

所述定位底板(1)前后端一侧均固定设置有支撑板(5)，两个所述支撑板(5)上端均固定设置有伺服电机(4)，所述定位底板(1)上端前后侧靠近伺服电机(4)处均固定设置有控制机构(6)，两个所述控制机构(6)包括两个防尘框(601)和两个传动杆(605)，多个所述定位机构包括多个转动盘(702)。

2.根据权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于：两个所述防尘框(601)内部相反一侧靠上端均转动设置有传动辊(607)，两个所述传动辊(607)分别连接到两个伺服电机(4)输出端。

3.根据权利要求2所述的一种研磨抛光装置，其特征在于：两个所述防尘框(601)内部相反一侧靠下端均转动设置有第二锥齿轮(606)，两个所述第二锥齿轮(606)分别与两个传动辊(607)之间连接有传动皮带(602)。

4.根据权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于：两个所述防尘框(601)内部一侧均转动设置有连接转轴(604)，两个所述连接转轴(604)一端均固定设置有第一锥齿轮(603)，两个所述第一锥齿轮(603)一端分别连接到两个传动杆(605)一端。

5.根据权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于：多个所述转动盘(702)内部中间处均固定套设有转动轴(701)，多个所述转动轴(701)连接到两个传动杆(605)一端。

6.根据权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于：多个所述传动盘上端均固定设置有定位支撑臂(703)，多个所述转动盘(702)下端均固定设置有下料支撑臂(706)。

7.根据权利要求6所述的一种研磨抛光装置，其特征在于：多个所述定位支撑臂(703)与下料支撑臂(706)两两相对一侧均开设有滑动槽(708)，多个所述滑动槽(708)内部均上下端均固定设置有移动弹簧(707)，多个所述移动弹簧(707)两两之间均固定设置有固定块(705)，多个所述固定块(705)两两相对一侧均转动设置有固定板(704)。