1.一种真空高温反应釜，其特征在于，包括：釜体及安装在所述釜体上的旋转轴；

所述釜体上设置水冷夹层法兰及调心轴承与所述旋转轴配合安装，所述水冷夹层法兰接入冷却水；

所述旋转轴配置密封装置与所述釜体连接，所述密封装置安装在所述水冷夹层法兰的上部；

所述水冷夹层法兰的上部安装保护气罩封闭所述密封装置，所述保护气罩通入保护气体；

所述旋转轴的上部安装有水冷罩，所述水冷罩接入冷却水；

所述水冷夹层法兰减少所述釜体向所述密封装置的热量传递及所述水冷罩对所述旋转轴进行降温，使得所述密封装置保持密封效果；

当所述密封装置发生泄漏，所述保护气罩的保护气体被吸入所述釜体的内部，保持所述釜体内部的真空度及气体环境。

2.如权利要求1所述的真空高温反应釜，其特征在于，所述旋转轴的顶部连接有电机，所述电机驱动所述旋转轴旋转。

3.如权利要求1所述的真空高温反应釜，其特征在于，所述釜体的内侧设置有磁性吸附装置，所述旋转轴穿过所述磁性吸附装置。

4.如权利要求3所述的真空高温反应釜，其特征在于，所述磁性吸附装置为环形磁铁。

5.如权利要求1所述的真空高温反应釜，其特征在于，所述旋转轴的上部设置有挡水罩，所述水冷罩封装所述挡水罩。