1.还原芬顿一体化设备，包括装置本体(1)，其特征在于，还包括：曝气机构(2)，所述曝气机构(2)设置于装置本体(1)上表面上方；

PH调节前区(5)，所述PH调节前区(5)开设于装置本体(1)上表面一端一侧；

微电解区(6)，所述微电解区(6)设置于PH调节前区(5)一侧且开设于装置本体(1)上表面一侧中部；

前Fenton区(7)，所述前Fenton区(7)开设于装置本体(1)上表面另一端一侧；

后Fenton区(8)，所述后Fenton区(8)开设于装置本体(1)上表面另一侧；

PH调节后区(9)，所述PH调节后区(9)开设于装置本体(1)上表面一端另一侧。

2.根据权利要求1所述的还原芬顿一体化设备，其特征在于：所述曝气机构(2)包括：

曝气总管(10)，所述曝气总管(10)设置于装置本体(1)上表面中部；

曝气分管(11)，所述曝气分管(11)设置有若干个且分别设置于PH调节前区(5)、微电解区(6)、前Fenton区(7)、后Fenton区(8)和PH调节后区(9)内底部，所述曝气分管(11)上端均与曝气总管(10)固定连接；

曝气穿孔(12)，所述曝气穿孔(12)设置有若干个且均匀开设于每个所述曝气分管(11)下端上表面。

3.根据权利要求1所述的还原芬顿一体化设备，其特征在于，还包括：进水管(3)，所述进水管(3)一端与装置本体(1)固定连接且贯穿设置于PH调节前区(5)内；

微电解过水孔(14)，所述微电解过水孔(14)贯穿开设于PH调节前区(5)和微电解区(6)之间下端。

4.根据权利要求1所述的还原芬顿一体化设备，其特征在于，还包括：微电解材料放置槽(13)，所述微电解材料放置槽(13)设置于微电解区(6)内且与微电解区(6)内中部固定连接；

PH调节过水孔(15)，所述PH调节过水孔(15)设置于微电解材料放置槽(13)一侧上方且开设于微电解区(6)和前Fenton区(7)之间。

5.根据权利要求1所述的还原芬顿一体化设备，其特征在于，还包括：贯穿槽(17)，所述贯穿槽(17)设置于装置本体(1)内中部一侧且开设于前Fenton区(7)与后Fenton区(8)之间；

PH调节后区过水孔(16)，所述PH调节后区过水孔(16)开设于后Fenton区(8)与PH调节后区(9)之间底部；

出水管(4)，所述出水管(4)设置于装置本体(1)一端另一侧，所述出水管(4)一端贯穿设置于PH调节后区(9)内部。

6.根据权利要求3所述的还原芬顿一体化设备，其特征在于：所述进水管(3)内部固定连接有电磁流量计。

7.根据权利要求1所述的还原芬顿一体化设备，其特征在于：所述PH调节前区(5)和PH调节后区(9)内底部均固定连接有PH计。