1.一种可调节的基座，包括反应釜本体(1)，其特征在于，所述反应釜本体(1)的底端活动安装有滑架(11)，所述反应釜本体(1)的底端固定安装有底座(13)，所述底座(13)与滑架(11)相连接，所述底座(13)的两个侧端部均开设有第二凹槽(15)，每个所述第二凹槽(15)的内侧壁均转动安装有至少两个转筒(14)，所述底座(13)的两个侧端部均滑动安装有两个定位块(16)，每个所述定位块(16)的侧端部均固定安装有第一弹簧块(17)。

2.根据权利要求1所述的一种可调节的基座，其特征在于，所述滑架(11)内壁的底端开设有至少两个第一凹槽(12)。

3.根据权利要求1所述的一种可调节的基座，其特征在于，所述底座(13)的两个侧端部均固定安装有U型固定板(18)。

4.根据权利要求3所述的一种可调节的基座，其特征在于，每个所述U型固定板(18)的顶端均滑动安装有T型插板(22)。

5.根据权利要求3所述的一种可调节的基座，其特征在于，位于T型插板(22)一侧每个所述U型固定板(18)的顶端均固定安装有固定框(23)。

6.根据权利要求5所述的一种可调节的基座，其特征在于，每个所述固定框(23)的侧端部均滑动安装有夹板(21)，每个所述夹板(21)的侧端部均固定安装有两个第二弹簧块(19)。