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专利号: 2023107829984
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-07-29
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种平面非连续剪切增稠SiC研抛一体抛光装置,包括工作台(400)及设置于工作台(400)上的抛光盘组件(200)和抛光头组件(100),其特征在于,所述抛光盘组件(200)包括抛光盘主体(220)、抛光盘驱动机构、恒压供液机构(210)和抛光垫(221a),所述抛光盘主体(220)的中心部位内置中心分液腔(222),抛光盘主体(220)的上表面以中心分液腔(222)为中心内外设置若干圈环形的抛光液贮藏槽(224),相邻抛光液贮藏槽(224)之间通过设置的第一分液孔(225)连通,中心分液腔(222)与相邻抛光液贮藏槽(224)之间通过设置的第二分液孔(227)连通,所述抛光盘驱动机构用以驱动抛光盘主体(220)旋转,所述恒压供液机构用以为中心分液腔(222)供液,所述抛光垫(221a)盖住所有抛光液贮藏槽(224);

所述抛光盘主体(220)中,相邻抛光液贮藏槽(224)之间环布多个第一分液孔(225),中心分液腔(222)与相邻抛光液贮藏槽(224)之间环布多个第二分液孔(227);所有抛光液贮藏槽(224)的底部位置自内向外逐渐降低;

所述抛光盘主体(220)的底部设置废液收集桶(260),抛光盘主体(220)的上表面设置以中心分液腔(222)为中心的环形的废液收集槽(226),所述废液收集槽(226)通过设置的废液收集流道(228)连通至废液收集桶(260),所述废液收集槽(226)位于最外圈抛光液贮藏槽(224)的外层,两者之间通过溢流口(229)连通。

2.根据权利要求1所述的一种平面非连续剪切增稠SiC研抛一体抛光装置,其特征在于,所述恒压供液机构(210)为筒状结构,其设置于抛光盘主体(220)中心上端,其内腔与中心分液腔(222)连通。

3.根据权利要求2所述的一种平面非连续剪切增稠SiC研抛一体抛光装置,其特征在于,所述工作台(400)上设置支架(410),该支架(410)伸至抛光盘主体(220)上端,所述恒压供液机构(210)和抛光头组件(100)均设置于支架(410)上,并且恒压供液机构(210)下端与抛光盘主体(220)转动连接。

4.根据权利要求1所述的一种平面非连续剪切增稠SiC研抛一体抛光装置,其特征在于,所述抛光盘组件(200)还包括位于抛光盘主体(220)下端的回转支承轴承(250),所述回转支承轴承(250)包括转动配合的轴承内圈和轴承外圈,所述轴承内圈与工作台(400)固定连接,所述轴承外圈为齿轮结构,其与抛光盘主体(220)固定连接,所述抛光盘驱动机构包括主动齿轮(230)和抛光盘驱动电机(240),所述主动齿轮(230)与回转支承轴承(250)的轴承外圈啮合,所述抛光盘驱动电机(240)用以驱动主动齿轮(230)旋转。

5.根据权利要求1所述的一种平面非连续剪切增稠SiC研抛一体抛光装置,其特征在于,所述抛光头组件(100)包括抛光轴(140)、设置于抛光轴(140)下端的抛光头主体(160)、抛光头升降驱动机构(110)和抛光头旋转驱动机构(170),所述抛光头升降驱动机构(110)用以带动抛光轴(140)升降,所述抛光头旋转驱动机构(170)用以驱动抛光轴(140)旋转。

6.根据权利要求5所述的一种平面非连续剪切增稠SiC研抛一体抛光装置,其特征在于,所述工作台(400)上设置支架(410),该支架(410)伸至抛光盘主体(220)上端,所述抛光头组件(100)设置于支架(410)上;所述抛光头升降驱动机构(110)的输出端设置安装座(130),所述抛光头旋转驱动机构(170)包括抛光头驱动电机(171)和中间传动机构,所述抛光轴(140)的上端与安装座(130)转动配合,下端外壁上下滑动套设花键套(190),所述花键套(190)转动安装于支架(410)上,抛光头驱动电机(171)通过中间传动机构带动花键套(190)旋转,花键套(190)能够带动抛光轴(140)旋转。

7.根据权利要求6所述的一种平面非连续剪切增稠SiC研抛一体抛光装置,其特征在于,所述安装座(130)上设置接头(180),所述接头(180)连接气泵(300),所述抛光轴(140)内部沿其轴向设有与接头(180)连通的腔体,该腔体下端通至抛光头主体(160),由抛光头主体(160)封堵。

8.根据权利要求1所述的一种平面非连续剪切增稠SiC研抛一体抛光装置,其特征在于,所述抛光垫(221a)与抛光盘主体(220)之间夹设抛光垫支承板(221b),所述抛光垫(221a)与抛光垫支承板(221b)上均布满对应的通孔;所述抛光盘主体(220)上端边沿围设防溅挡板(500)。