1.一种用于化学机械抛光的抛光液自动配制及均匀施液装置，其特征在于：位于机体最下方的基座（0），在所述基座（0）上壁的一侧安置有气动撑杆（2），在所述气动撑杆（2）的上端安置有支承板（3）；

在所述气动撑杆（2）上安置有锁紧阀（1）；

所述支承板（3）通过带有锁紧阀（1）的气动撑杆（2）连接安装在基座（0）的正上方；

还包括搅拌缸（22），在所述搅拌缸（22）的底端安置有三条腿，在所述支承板（3）的上端面上的内围处开设有三个限制孔二，所述搅拌缸（22）的三条腿的底端插设在支承板（3）上端面上对应的三个限制孔二内；

在所述搅拌缸（22）的下端开设有出液管，在所述出液管的出口处安置有电磁阀一（21）；

在所述支承板（3）的上壁上安置有增压泵（9），所述增压泵（9）由穿设的四颗螺栓七（43）与支承板（3）上端面上的四个对应的螺纹孔相互配合、且固定在支承板（3）的上端面上；

在所述增压泵（9）上开设有进液口与出液口，

在所述出液口的下端连接有贯穿支承板（3）的静管（41），所述出液管的出液口与增压泵（9）的进液口相连接；

所述增压泵（9）的出液口与静管（41）的进液口相连接；

在所述支承板（3）上、所述静管（41）的外壁上套设有相适配的圆环，所述静管（41）由安置的八个螺栓三（20）固定在支承板（3）上端面相应凸起的带有八个周向均匀分布通孔的圆环中；

在所述静管（41）下端的外壁上安置有轴承盖（11），

所述轴承盖（11）的底端与静管（41）之间通过安置的螺栓五（29）活动连接；

在所述轴承盖（11）的内部安置有轴承座（39），所述轴承座（39）由下端面安置的八个销钉与静管（41）的静管轴肩上端面上的八个槽口对应配合连接，在所述轴承座（39）的上端面开设有截面为半圆形的环形槽，在所述环形槽中安置有若干个滚珠（40），若干个所述的滚珠（40）均匀分布在所述的环形槽内；

在所述静管（41）的下端还安置有静止环（36），所述静止环（36）由安设的八个螺栓六（37）与静管（41）的静管轴肩下端面的相应螺纹孔配合连接且固定到静管（41）上；

在所述静管（41）与静止环（36）之间安设有密封圈三（38），所述密封圈三（38）安置在静管（41）与静止环（36）的接触面之间；

还包括抛光头（14）、密封圈一（30）、动环座（31）、至少八个压力簧（32）、压力环（33）、两个密封圈二（34）、转动环（35）及油腔盖（42）；

所述动环座（31）由八个螺栓九（47）与抛光头（14）上部的轴肩上表面对应的八个螺纹孔配合连接固定在抛光头（14）的上部；

八个压力簧（32）套在动环座（31）上表面上八个周向均匀分布的限位中空立柱上，压力环（33）下表面八个周向均匀分布的限位通孔立柱插入相应的压力簧（32）中；

所述转动环（35）下表面的八个限位立柱插入相应的压力环（33）上的限位立柱通孔、压力簧（32）、动环座（31）上相应的限位中空立柱的孔中；

两个大小不同的密封圈二（34）挤压在压力环（33）与转动环（35）之间；

所述抛光头（14）由八个周向均匀分布的螺栓五（29）与轴承盖（11）外壁下端面的八个相应螺纹孔配合连接固定到轴承盖（11）上；

所述抛光头（14）的中心为空心轴，其中空部分为抛光液流动的管道，在所述抛光头（14）底部安置有四个周向均匀分布的管状导流槽，所述管状导流槽与中空部分相连通，在所述抛光头（14）的底部还安置有四个周向均匀分布的用以放置工件的通孔立柱；

所述密封圈一（30）挤压在轴承盖（11）外壁与抛光头（14）的轴肩之间；

所述油腔盖（42）安装在轴承盖（11）的侧壁的斜向螺纹孔上。

2.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的抛光液自动配制及均匀施液装置，其特征在于：在所述支承板（3）的上壁上安置有支承架（4），在所述支承架（4）的下壁的四角分别安置有一条腿，在所述支承板（3）上壁的外围处开设有四个限制孔一，所述支承架（4）的四条腿的底端插设在所述支承板（3）上端面上开设的四个限制孔一内。

3.根据权利要求2所述的一种用于化学机械抛光的抛光液自动配制及均匀施液装置，其特征在于：在所述支承架（4）的上壁上安置有若干个环形测力传感器（5），在所述支承架（4）上开设有至少四个螺纹孔，所述环形测力传感器（5）与支承架（4）通过穿设在螺纹孔中的四个螺栓一（6）固定连接；

在所述环形测力传感器（5）中心位置的受力感应区处对应的套装有若干个物料缸（7），在所述物料缸（7）圆筒部分的最下方外表面安设有一圈突出的、起到支承物料缸（7）作用的支承环；

在所述物料缸（7）的顶部安置有料缸盖（8），在所述物料缸（7）与料缸盖（8）上均开设有相应的通孔。

4.根据权利要求3所述的一种用于化学机械抛光的抛光液自动配制及均匀施液装置，其特征在于：所述物料缸（7）的底部采用斜坡设计、且开设有出料口，

在各个所述物料缸（7）的下端均开设有出料管处，在所述出料管处均安置有电磁阀二（24）；

在搅缸盖（23）上对应出料管处开设有四个周向均匀分布大小相同的进料通孔，所述出料管插设在进料通孔中、且进料通孔的内径大于出料管的内径；

所述物料缸（7）的出料管的下端面还低于搅缸盖（23）的上端面；

在所述搅缸盖（23）的下端边缘处安置有八个向下凸起的固定块，在所述搅拌缸（22）的上端边缘处开设有八个固定槽口；

在所述搅缸盖（23）的下端安置有搅拌缸（22），所述搅缸盖（23）盖设在搅拌缸（22）的上端，所述搅缸盖（23）下端边缘处安置的八个固定块与搅拌缸（22）上端边缘处安设的八个固定槽口相吻合。

5.根据权利要求4所述的一种用于化学机械抛光的抛光液自动配制及均匀施液装置，其特征在于：在所述搅缸盖（23）的上壁表面内安置有电机二（46），在所述搅缸盖（23）上开设有至少四个螺纹孔，所述电机二（46）通过安置的四个螺栓八（45）与搅缸盖（23）上端的四个螺纹孔相互配合、且固定安装在搅缸盖（23）上端的中心孔处，在所述搅拌缸（22）内还安置有搅拌器（44），所述搅拌器（44）安装在电机二（46）中连接的输出轴的下端；

所述搅拌器（44）的叶片采用与水平方向呈一定角度的多层多个斜叶片设计。

6.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的抛光液自动配制及均匀施液装置，其特征在于：在所述轴承盖（11）与抛光头（14）之间安置有大齿轮（12），在所述支承板（3）的下壁上安置有电机一（18），在所述电机一（18）的下端安置有小齿轮（17）；

所述大齿轮（12）通过安置的大键（27）安装在抛光头（14）的主轴上，所述小齿轮（17）通过安置的小键（28）安装在电机一（18）的输出轴上；

所述电机一（18）由四颗螺栓二（19）将其固定在支承板（3）的下表面；所述小齿轮（17）与大齿轮（12）啮合配合在电机一（18）的带动下小齿轮（17）带动大齿轮（12）转动。

7.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的抛光液自动配制及均匀施液装置，其特征在于：在所述抛光头（14）的外壁上均布安置有四个支臂，在四个所述支臂上分别安置有压力杆（13），四个所述的压力杆（13）安装在抛光头（14）上相应的四个支臂上；

在所述抛光头（14）的下壁安置有抛光头下盘（15），所述抛光头下盘（15）与抛光头（14）之间采用粘结或焊接的方式连为一体；

在所述抛光头下盘（15）上对应抛光头（14）上开设的四个导流槽的正下方各开设有三个出液通孔；

还包括控流盘（16），所述控流盘（16）由四个螺栓四（26）与抛光头下盘（15）的下表面上四个周向均匀分布的螺纹孔配合连接在抛光头下盘（15）上；在所述控流盘（16）上开设有三组类似于抛光头下盘（15）上的孔；

在所述控流盘（16）的上表面还安置有凸起的挡水圈；

在四个螺栓四（26）上套设有四个弹簧（25），四个所述的弹簧（25）套设在四个螺栓四（26）上且被挤压在相应的螺栓四（26）与抛光头下盘（15）之间，在所述弹簧（25）与抛光头下盘（15）之间还垫有垫片（48）。

8.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的抛光液自动配制及均匀施液装置，其特征在于：在所述支承板（3）的上壁的一侧还安置有触控板（10）；

在所述基座（0）上还开设有大孔。