1.一种用于光学氧传感器的光学氧传感膜的制备方法，其特征在于，所述光学氧传感膜由光隔离膜和氧敏感荧光膜构成；

所述光隔离膜由炭黑颗粒、抗生物污染颗粒及高透氧聚二甲基硅氧烷载体构成；

所述氧敏感荧光膜由高透氧聚二甲基硅氧烷载体和氧敏感荧光素构成；

所述聚二甲基硅氧烷载体为道康宁184，主剂:固化剂=10:1；

所述氧敏感荧光素为铂八乙基卟啉；

所述炭黑颗粒为2微米；

所述抗生物污染颗粒为2微米的黄铜颗粒；

所述光学氧传感膜的制备步骤如下；

（S1）氧敏感荧光膜储备液制备：称取聚二甲基硅氧烷载体和氧敏感荧光素，所述二甲基硅氧烷载体和氧敏感荧光素之间的质量比为100:1；

通过机械搅拌方式使两者充分混合，静置消泡后得到氧敏感荧光膜储备液；

（S2）氧敏感荧光膜制备：将氧敏感荧光膜储备液通过旋涂方式涂布在玻璃平板上，旋涂转速500 rpm，旋涂时间3min；涂布完成后，将玻璃板置于100℃的烘箱中烤30 min，固化得到氧敏感荧光膜；

（S3）光隔离膜储备液制备：称取一定量的聚二甲基硅氧烷载体、炭黑颗粒及黄铜颗粒，通过机械搅拌方式使载体与炭黑、黄铜颗粒充分混合，静置消泡后得到光隔离膜储备液；

所述聚二甲基硅氧烷载体、炭黑颗粒及黄铜颗粒的质量比为5:2:1；

（S4）氧传感膜的制备：将步骤3所配制的光隔离膜储备液平铺在步骤2所制得的氧敏感荧光膜上，并通过旋涂方式使储备液均匀地覆盖在荧光膜表面，旋涂转速为200rpm，旋涂时间3min;涂布完成后，将其置于100℃的烘箱中烤30 min， 聚二甲基硅氧烷载体固化得到具有双层结构的光学氧传感膜。