1.一种高强度炫彩镭射膜，其特征在于，包括以下重量份的原料：铬铁矿微粉20‑50份，硅烷偶联剂5‑10份，修饰纳米纤维素晶体100‑150份，成膜剂5‑10份，水75‑95份；

以所述修饰纳米纤维素晶体的重量为参考，所述修饰纳米纤维素晶体包括以下重量份的原料：光引发剂5‑10份，聚丙烯酸50‑80份，溶剂75‑125份，氧化改性的纳米纤维素晶体

100‑150份，纳米铝35‑40份；

所述修饰纳米纤维素晶体采用包括以下步骤的方法制备得到：将光引发剂、聚丙烯酸、溶剂、氧化改性的纳米纤维素晶体以及纳米铝混合后经紫外照射反应后得到；

所述氧化改性的纳米纤维素晶体是将纳米纤维素晶体经包括双氧水溶液处理的步骤后得到的；

其中，所述修饰纳米纤维素晶体的宽度为5‑50nm，长度为50‑500nm，纳米铝的粒径为

20‑80nm，铬铁矿微粉的粒径为30‑50μm。

2.根据权利要求1所述的炫彩镭射膜，其特征在于，所述氧化改性的纳米纤维素晶体采用包括以下步骤的方法制备得到：将纳米纤维素晶体分散至双氧水溶液内并搅拌反应，随后水洗、干燥后得到氧化改性的纳米纤维素晶体；所述纳米纤维素晶体和所述双氧水溶液的用量比例为0.08‑0.15g纳米纤维素晶体/ml双氧水溶液。

3.根据权利要求2所述的炫彩镭射膜，其特征在于，将纳米纤维素晶体分散至双氧水溶液后，搅拌时间为5‑10min。

4.根据权利要求1所述的炫彩镭射膜，其特征在于，制备所述修饰纳米纤维素晶体时紫外照射时间为2‑8min，紫外照射时温度为10‑30℃。

5.根据权利要求1所述的炫彩镭射膜，其特征在于，制备所述修饰纳米纤维素晶体时紫2

外光照强度为20‑90mw/cm。

6.根据权利要求1所述的炫彩镭射膜，其特征在于，所述成膜剂选自丙烯酸树脂成膜剂、丁二烯树脂成膜剂、聚氨酯成膜剂和硝酸纤维成膜剂中的任意一种或多种。

7.一种权利要求1‑6任意一项所述高强度炫彩镭射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：按照配比将全部的所述修饰纳米纤维素晶体、铬铁矿微粉、硅烷偶联剂、成膜剂和水混合均匀，随后压制成型、干燥，即得所述高强度炫彩镭射膜。

8.根据权利要求7所述的高强度炫彩镭射膜的制备方法，其特征在于，压制成型时压力2

为8‑15kgf/cm。