1.一种可实时温控的研磨抛光机，包括箱体（1），其内部架设有第一电动机（2），所述第一电动机（2）的输出轴固定连接设有轴杆（3），所述轴杆（3）远离所述第一电动机（2）的一端设有抛光盘（4），所述抛光盘（4）与所述轴杆（3）固定连接，所述抛光盘（4）穿设在所述箱体（1）的顶部，其特征在于，所述抛光盘（4）的底部设有加热盘（5），所述加热盘（5）套设在所述轴杆（3）上，所述箱体（1）的一侧设有雾化降温组件，所述雾化降温组件的雾化口架设在所述箱体（1）的顶部，所述箱体（1）的顶部设有控温组件，所述控温组件与加热组件和雾化降温组件电性连接；

其中，控温组件根据所述抛光盘（4）表面的温度控制加热盘（5）和雾化降温组件工作，以使工件的加工温度可调节；

所述加热盘（5）的中心处设有轴承（14），所述轴承（14）套设在所述轴杆（3）上，所述轴承（14）的内环与所述轴杆（3）固定连接，所述加热盘（5）的顶部嵌设有若干个环形阵列的加热管（15），每个所述加热管（15）的一端均靠近所述轴承（14）设置，另一端靠近所述加热盘（5）外圆设置，所述加热盘（5）的底部设有同心布置的负极固定圈（16）和正极固定圈（17），所述负极固定圈（16）的底部固设有若干个第一支撑杆（18），每个所述第一支撑杆（18）均与所述第一电动机（2）的外壳固定连接，所述正极固定圈（17）的底部固设有若干个第二支撑杆（19），每个所述第二支撑杆（19）均与所述箱体（1）的底部固定连接，所述负极固定圈（16）的内顶粘设有两个负极电圈（20），所述正极固定圈（17）的内顶粘设有两个正极电圈（21），所述加热盘（5）的底部穿设有若干个环形阵列的负极导杆（22）和若干个环形阵列的正极导杆（23），每个所述负极导杆（22）的一端分别与所述加热管（15）固定连接，另一端均穿设在所述负极固定圈（16）的顶部与两个所述负极电圈（20）相切，且每个所述正极导杆（23）的一端分别与所述加热管（15）固定连接，另一端均穿设在所述正极固定圈（17）的顶部与两个所述正极电圈（21）相切；

所述负极固定圈（16）的内部均设有一个第一支撑板（24）和若干个第二弹簧（25），每个所述第二弹簧（25）的两端分别抵顶于所述负极固定圈（16）的内底和所述第一支撑板（24），所述正极固定圈（17）的内部均设有一个第二支撑板（26）和若干个第三弹簧（27），每个所述第三弹簧（27）的两端分别抵顶于所述正极固定圈（17）的内底和所述第二支撑板（26），所述加热盘（5）的底部设有环形槽（28），所述环形槽（28）的内部设有至少两个导轮（29），每个所述导轮（29）分别转动连接架设在所述箱体（1）的一侧，所述箱体（1）的内部架设有第二电动机（30），所述第二电动机（30）的输出轴固设有转轴（31），所述转轴（31）远离所述第二电动机（30）的一端固设有橡胶轮（32），所述橡胶轮（32）设置在所述环形槽（28）中，且所述橡胶轮（32）与所述环形槽（28）的一环形壁相抵。

2.根据权利要求1所述的一种可实时温控的研磨抛光机，其特征在于，所述箱体（1）的顶部设有储存槽（6），所述储存槽（6）套设在所述抛光盘（4）的底部，且所述储存槽（6）的内部设有与所述箱体（1）的一侧连通的导流管（7）。

3.根据权利要求1所述的一种可实时温控的研磨抛光机，其特征在于，所述抛光盘（4）的内部设有呈平面螺纹状的加热丝（8），所述加热丝（8）的两端分别接设有导线（9），每个所述导线（9）均穿设在所述轴杆（3）中，每个所述导线（9）远离所述加热丝（8）的一端均设有铜片（10），每个所述铜片（10）均嵌设在所述轴杆（3）上，所述轴杆（3）上套设有套筒（11），所述套筒（11）的一端与所述第一电动机（2）的外壳固定连接，所述套筒（11）的内部插设有两个对称分布的电刷（12），每个电刷（12）与所述套筒（11）之间分别设有至少一个第一弹簧（13），每个所述第一弹簧（13）的两端分别抵顶于所述电刷（12）和所述套筒（11），且每个所述电刷（12）均与所述控温组件电性连接。

4.根据权利要求1所述的一种可实时温控的研磨抛光机，其特征在于，所述箱体（1）的顶部设有降温壳（33），所述降温壳（33）与所述箱体（1）固定连接，所述降温壳（33）的一端向下延伸套设在所述雾化降温组件上，所述降温壳（33）的顶部设有可拆卸连接的盖板（34），所述盖板（34）上设有进料口（35），所述降温壳（33）靠近所述雾化降温组件的一侧装设有若干个排列分布的散热扇（36），另一侧设有与所有所述散热扇（36）一一对应的排气扇（37），且每个所述散热扇（36）靠近所述排气扇（37）的一侧均设有制冷晶片（38）。

5.根据权利要求4所述的一种可实时温控的研磨抛光机，其特征在于，所述雾化降温组件包括：

第一储水箱（39），设置在所述降温壳（33）的内部；

第一水泵（40），架设在所述第一储水箱（39）的一侧，且所述第一水泵（40）的进水口靠近所述第一储水箱（39）的底部设置；

分流管（41），架设在所述箱体（1）的侧壁上，且所述分流管（41）的进水口与所述第一水泵（40）的出水口连通；

若干个连接管（42），其一端均与所述分流管（41）连通，另一端分别设有雾化喷头（43），且每个所述雾化喷头（43）均架设在所述箱体（1）的顶部。

6.根据权利要求5所述的一种可实时温控的研磨抛光机，其特征在于，所述箱体（1）的内部设有第二储水箱（44），所述第二储水箱（44）的一侧架设有第二水泵（45），所述第二水泵（45）的进水口与所述第二储水箱（44）的底部连通，所述降温壳（33）的内部挂设有呈螺纹状的回流管（46），所述回流管（46）与所述连接管（42）贴合设置，所述回流管（46）的两端均穿过所述箱体（1）分别与所述第二水泵（45）的出水口和所述第二储水箱（44）连通。

7.根据权利要求1所述的一种可实时温控的研磨抛光机，其特征在于，所述控温组件包括：

温度调节控制器（47），架设在所述箱体（1）的顶部；

功率调节器（48），架设在所述箱体（1）的内部，且所述功率调节器（48）用于与所有电路电性连接；

至少两个固定座（49），均围绕所述抛光盘（4）与所述箱体（1）固定连接；

至少两个红外测温仪（50），分别铰设在一个所述固定座（49）上。

8.根据权利要求1‑7任一项所述的一种可实时温控的研磨抛光机的控温方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：启动第一电动机（2）带动轴杆（3）旋转，通过轴杆（3）带动抛光盘（4）旋转，通过抛光盘（4）带动抛光垫旋转研磨工件；

S2：通过红外测温仪（50）对抛光盘表面进行检测，并将检测到的温度信号发送给温度调节控制器（47）；

S3：将温度调节控制器（47）接收红外测温仪（50）检测的温度与目标温度进行比较，判断检测温度是否大于目标温度，若是，利用雾化降温组件对抛光盘（4）进行降温工作，若否，利用加热盘（5）和加热丝（8）对抛光盘（4）进行加热工作；

S4：将降温或加热后的温度，再次与目标温度比较，判断当前温度是否等于目标温度，若是，通过温度调节控制器（47）内的PID控制功率调节器（48）调节系统输出功率，若否，返回上一步，再次进行降温工作或加热工作，直至等于目标温度，通过温度调节控制器（47）内的PID控制功率调节器（48）调节系统输出功率。