1.一种电解抛光及表面处理装置，包括底板（1）和用于对所述加工工件进行电解抛光的电解池（11），其特征在于：还包括升降台（30），所述升降台上连接有连接台，所述升降台用于带动所述连接台上下移动；所述连接台上连接有对加工工件进行表面处理的加工刀具，所述连接台用于带动所述加工刀具俯仰移动；

操作台（25），所述操作台（25）上连接有可转动的加工台（26）；所述操作台（25）用于带动所述加工台（26）移动至所述加工刀具的下方，所述加工台（26）用于放置所述加工工件并带动所述加工工件转动；

移料组件（3），所述移料组件（3）用于夹取所述加工工件、并将所述加工工件移动至所述加工台（26）和所述电解池（11）。

2.根据权利要求1所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述底板（1）上设有升降壳（27），所述升降壳（27）内安装有升降电机，所述升降壳（27）中通过轴承配合连接有升降丝杠（28），所述升降丝杠（28）的底端固定连接所述升降电机的输出端；

所述升降丝杠（28）上设有升降连接块（29），且所述升降连接块（29）内部嵌入安装的滚珠螺母与所述升降丝杠（28）相互配合连接，所述升降台（30）设置在所述升降连接块（29）的端部。

3.根据权利要求2所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述连接台包括设置在所述升降台（30）底部的两个调节支架（403），两个调节支架（403）相间隔设置且两个所述调节支架（403）之间连接有调节轴（405）；所述调节支架（403）一侧设置有翻转电机（404），所述翻转电机（404）的输出端贯穿所述调节支架（403）且与所述调节轴（405）相连；

所述调节轴（405）上固定套接有处理壳（406），所述处理壳（406）的内部嵌入安装有加工电机（31），所述加工电机（31）的输出端上套接有用于连接刀具的刀头连接块。

4.根据权利要求1所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述移料组件（3）包括电机壳（301），所述电机壳（301）内设有旋转电机（302），所述电机壳（301）的顶部转动连接有旋转台（303），所述旋转电机（302）的输出端固定连接所述旋转台（303）的底部，且所述旋转台（303）的顶部设有提升气缸（304）；

所述提升气缸（304）的输出端固定套接有支撑台（305），且所述支撑台（305）上铰接有第一连杆（306），所述第一连杆（306）的端部铰接有第二连杆（307）的一端，且所述第二连杆（307）的端部铰接有连接架（308），所述连接架（308）上设有机械爪本体（309）。

5.根据权利要求3所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述支撑台（305）中转动连接有第一气缸（310），且所述第一气缸（310）的输出端通过转轴配合连接在所述第一连杆（306）上；所述第一连杆（306）的一侧中心处转动连接有第二气缸（311），所述第二气缸（311）的输出端通过转轴配合连接在第二连杆（307）上；所述第二连杆（307）的一侧中心处转动连接有第三气缸（312），所述第三气缸（312）的输出端通过转轴配合连接在所述连接架（308）上。

6.根据权利要求1所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述底板（1）上设有丝杠支架（16），所述丝杠支架（16）上通过轴承配合连接有第一丝杠（17），所述丝杠支架（16）的一侧设置有第一电机，所述第一电机的输出端贯穿所述丝杠支架（16）固定连接所述第一丝杠（17）的一端；所述第一丝杠（17）上设置有横移台（18），所述横移台（18）内部嵌入安装的滚珠螺母与所述第一丝杠（17）相互配合连接。

7.根据权利要求5所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述横移台（18）的顶部开设的凹槽中对称设置有两个转动支架（19），所述转动支架（19）上转动连接有转动套管（20），所述转动套管（20）上套接有第一齿轮（21），所述第一齿轮（21）啮合连接有第二齿轮（22）；所述横移台（18）顶部开设的凹槽中固定有齿轮电机，所述第二齿轮（22）套接在所述齿轮电机的输出端上。

8.根据权利要求6所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述操作台（25）的底部固定连接有滑移壳（24），所述滑移壳（24）内固定有第二丝杠（23），所述转动套管（20）内部嵌入安装的滚珠螺母配合连接在所述第二丝杠（23）上；

所述横移台（18）与所述第二丝杠（23）的连接处开设有通孔，且所述横移台（18）的顶部滑动连接所述操作台（25）的底部。

9.根据权利要求1所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述操作台（25）顶部开设的凹槽内固定安装有调节电机（401），所述调节电机（401）的输出端连接有环形支架（402），所述加工台（26）连接在所述环形支架（402）的顶部。

10.根据权利要求1所述的一种电解抛光及表面处理装置，其特征在于：

所述底板（1）上设有抛光底壳，所述抛光底壳包括两个相对设置的第一侧板（5）、以及相对设置的封闭门板（6）和后侧板（7）；所述第一侧板（5）的内侧设置有定位支架（204），且所述定位支架（204）上固定安装有定位气缸（205），所述定位气缸（205）的输出端设置有定位片（206）；所述后侧板（7）的内侧设有挡块（208）；

所述抛光底壳的内底部设置有固定导轨（201），所述固定导轨（201）上滑动连接有可滑动的放置滑板（202）。