1.一种含吡咯并吡咯二酮结构的黑色聚酰亚胺，其特征在于，所述黑色聚酰亚胺由二胺单体和二酐单体聚合而成，分子结构通式为：其中：m为5～10000，n为0～10000；

其中，X选自以下结构通式中的一种：

其中R1为H原子或脂肪族基团或芳香族基团；

其中R2为O或S或NH；

其中，当R2为NH时，R1必须为H原子；

其中R3为以下结构式中任意一种：

其中Y选自以下结构中的一种或一种以上：

其中Z选自以下结构式中的一种或一种以上：

2.根据权利要求1所述一种含吡咯并吡咯二酮结构黑色聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，制备步骤包括：S1.二胺单体的制备：

S1‑1.合成单体1、单体2或单体3：

将2‑氰基噻吩或2‑氰基呋喃或2‑氰基吡咯加入叔戊醇钠溶液中，加热回流，滴加丁二酸二甲酯的叔戊醇溶液，反应后提纯、干燥，分别得到单体1、单体2或单体3，单体结构如下：S1‑2.合成单体4或单体5：

当R1不为H时，将步骤S1‑1中的单体1或单体2进行亲核取代反应，加入无机碱和含卤素的R1，搅拌并通入惰性保护气体，加热，回流反应后提纯、干燥，分别得到单体4或单体5，单体4和单体5具有如下结构特征：S1‑3.合成单体6、单体7、单体8、单体9、单体10或单体11：将步骤S1‑1中的单体1或单体2或单体3，或者步骤S1‑2中的单体4或单体5加入到溶剂中，加入溴化试剂，通过溴化反应后提纯、干燥分别得到单体6、单体7、单体8、单体9、单体10或单体11，它们具有如下结构特征：S1‑4.合成二胺单体：

将步骤S1‑3中的单体6、单体7、单体8、单体9、单体10或单体11分别和含有一个氨基和一个硼酸取代的R3单体加入到溶剂中，加入碱，搅拌并通入惰性保护气体，加热，加入催化剂回流反应后提纯、干燥，得到含吡咯并吡咯二酮结构的二胺单体；

S2.黑色聚酰亚胺的制备：

S2‑1.将S1中得到的含吡咯并吡咯二酮结构二胺单体与二酐单体，或S1中得到的含吡咯并吡咯二酮结构二胺单体、含Y结构的二胺单体与二酐单体，按比例溶于强极性非质子有机溶剂中，在一定温度下搅拌反应，得到均相、粘稠的聚酰胺酸胶液；

S2‑2.将S2‑1中得到的聚酰胺酸胶液进行酰亚胺化后得到高性能聚酰亚胺。

3.根据权利要求2所述一种含吡咯并吡咯二酮结构黑色聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，所述步骤S1‑2和S1‑4中惰性保护气体为氮气、氦气、氖气、氩气、氪气、氙气、氡气中的一种或几种。

4.根据权利要求2所述一种含吡咯并吡咯二酮结构的黑色聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，所述步骤S1‑3中溴化反应的溴化试剂为N‑溴代琥珀酰亚胺、1,3‑二溴‑5,5‑二甲基海因、N‑溴邻磺酰苯酰亚胺、液溴中的一种或者几种。

5.根据权利要求2所述一种含吡咯并吡咯二酮结构的黑色聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，所述步骤S1‑4中所述Suzuki反应的含有一个氨基和一个硼酸取代的R3单体为4‑氨基苯硼酸、3‑氨基苯硼酸、2‑氨基苯硼酸、6‑氨基吡啶硼酸、2‑氨基嘧啶‑5‑硼酸、[4‑(4‑氨基苯氧基)苯基]硼酸、4'‑氨基联苯‑4‑硼酸、3'‑氨基联苯‑4‑硼酸、4‑氨基萘‑1‑硼酸、5‑氨基萘‑1‑硼酸、6‑氨基萘‑2‑硼酸中的一种。

6.根据权利要求2所述一种含吡咯并吡咯二酮结构的黑色聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，步骤S2‑1所述二胺单体与二酐单体添加的摩尔比为1:0.9～1:1.1，二胺单体与二酐单体总质量占聚酰胺酸胶液质量的2～50％。

7.根据权利要求2所述一种含吡咯并吡咯二酮结构的黑色聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，步骤S2‑1中所述强极性非质子有机溶剂为N‑甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基砜、环丁砜、1,4‑二氧六环、N,N‑二甲基乙酰胺、N,N‑二甲基甲酰胺、间甲酚、四氢呋喃中的一种或一种以上。

8.根据权利要求2所述一种含吡咯并吡咯二酮结构的黑色聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，步骤S2‑1中所述搅拌反应的温度为‑20～50℃，时间为0.5～72h。

9.根据权利要求1所述一种含吡咯并吡咯二酮结构的黑色聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，步骤S2‑2中所述酰亚胺化为化学酰亚胺化或热酰亚胺化。

10.根据权利要求1‑9任一所述含吡咯并吡咯二酮结构的黑色聚酰亚胺，其特征在于，所述黑色聚酰亚胺应用于微电子、光电、军工和航空航天。