1.高密度沉淀装置，包括内设容纳腔的容器，其特征在于，所述容纳腔内自上而下依次设有第一填料层、第二填料层；

所述容器上连接有将污水引入到容纳腔内的进水管、将沉淀物排出容纳腔的排泥管，所述进水管的出水口的高度低于所述第二填料层的下端面的高度，所述排泥管的进泥口的高度低于所述进水管的出水口的高度；

所述容器上连接有将净化后的水排出容纳腔的出水管，所述出水管的进水口的高度高于所述第一填料层的上端面的高度；

所述第二填料层为斜管填料层；

所述容纳腔内还设有第一导流板，所述第一导流板位于所述斜管填料层的下方，所述第一导流板倾斜设置。

2.根据权利要求1所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述斜管填料层的管件倾斜方向与所述第一导流板的倾斜方向相同。

3.根据权利要求2所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述第一导流板与水平面的夹角为60°。

4.根据权利要求1所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述容纳腔内还设有第二导流板，所述第二导流板位于所述第二填料层的下方，所述第二导流板的一端连接在所述第一导流板的顶上，所述第二导流板的另一端向所述容器的侧壁方向延伸；

第一导流板和第二导流板所形成的整体结构的断面呈“7”字状。

5.根据权利要求4所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述第二导流板是位于水平方向上的导流板。

6.根据权利要求4所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述第二导流板的高度越远离所述第一导流板的顶越高。

7.根据权利要求1‑6中任意一项所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述容纳腔内设有搅拌器，所述搅拌器位于所述第一导流板的下方。

8.根据权利要求1‑6中任意一项所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述容器为容纳腔呈方形状的方形容器，所述第一填料呈方形状，所述第一填料的四个边分别抵在所述方形容器的四个侧壁上；

所述进水管穿过所述第一填料，所述进水管的左侧设有一个所述斜管填料层、一个所述第一导流板，所述进水管的右侧设有一个所述斜管填料层、一个所述第一导流板；

所述第一导流板的两个端部分别焊接连接在容器的前后两个侧壁上。

9.根据权利要求8所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述进水管的中心轴线与所述方形容器的中心轴线重合，位于进水管两侧的两个斜管填料层径向对称，位于进水管两侧的两个第一导流板径向对称。

10.根据权利要求1‑6中任意一项所述的高密度沉淀装置，其特征在于，所述容器为容纳腔呈圆柱状的圆柱形容器，所述第一填料呈圆柱状，所述第一填料的外侧壁抵在所述圆柱形容器的内侧壁上；

所述进水管穿过所述第一填料的中心，所述第一导流板为呈圆锥状的罩体；

所述罩体的下部设有支撑腿，所述支撑腿的底部抵在所述容纳腔的底上。