1.一种便于清洁的反应釜，其特征在于，包括：

反应釜本体(1)，所述反应釜本体(1)内部转动安装有搅拌轴(12)，所述反应釜本体(1)的一侧连通设置有进料口(2)，所述反应釜本体(1)的顶部设置有喷洗组件。

2.根据权利要求1所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述反应釜本体(1)的顶部开设有安装孔(3)。

3.根据权利要求2所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述安装孔(3)内密封安装有密封盖(4)。

4.根据权利要求3所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述密封盖(4)的上部固定连接有把手(5)。

5.根据权利要求4所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述密封盖(4)的顶部开设有第一螺纹孔(8)。

6.根据权利要求5所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述喷洗组件包括导液管(6)、旋转散液器(11)和永磁铁(13)，所述导液管(6)螺纹安装在所述第一螺纹孔(8)内，所述导液管(6)的内顶部通过固定支撑板(9)固定连接有固定柱(10)，所述旋转散液器(11)转动套接在所述固定柱(10)的外部，且所述旋转散液器(11)转动设置在所述导液管(6)的底部内，所述永磁铁(13)的顶部与所述固定柱(10)的底部螺纹连接。

7.根据权利要求6所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述导液管(6)的顶部安装有接头(7)。

8.根据权利要求7所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述旋转散液器(11)的底部固定连接有限位垫盘(16)，所述限位垫盘(16)设置在所述导液管(6)的底部，且所述限位垫盘(16)的磁极与所述永磁铁(13)的磁极排斥，所述导液管(6)的底部设置有牛眼轴承(17)。

9.根据权利要求8所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述永磁铁(13)设置在所述搅拌轴(12)的正上方，所述永磁铁(13)的顶部开设有与所述固定柱(10)底端螺纹连接的第二螺纹孔(14)。

10.根据权利要求9所述的一种便于清洁的反应釜，其特征在于，所述永磁铁(13)的上部设置有磁性金属垫片(15)，所述磁性金属垫片(15)固定套接在所述固定柱(10)的外侧。