1.一种遮光抗辐射涤纶布，包括面料本体(9)，其特征在于，所述面料本体(9)是由基料层(1)、抗辐射层(2)、遮光基料(3)、遮光涂层(4)、抗皱层(5)组成，所述基料层(1)的顶端表面设置有抗辐射层(2)，所述抗辐射层(2)的顶端表面设置有抗皱层(5)，所述抗皱层(5)的顶端表面设置有遮光基料(3)，所述遮光基料(3)的顶端涂有遮光涂层(4)，所述基料层(1)、抗辐射层(2)、遮光基料(3)、抗皱层(5)均是采用经线纱(6)和纬线纱(7)交错编织而成，所述基料层(1)、抗辐射层(2)、遮光基料(3)、抗皱层(5)的上下层相互之间的经线纱(6)和纬线纱(7)之间相互交错设置。

2.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布，其特征在于，所述基料层(1)采用聚酯纤维交错编织而成。

3.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布，其特征在于，所述抗辐射层(2)采用碳纤维交错编织而成。

4.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布，其特征在于，所述抗皱层(5)采用记忆纤维交错编织而成。

5.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布，其特征在于，所述遮光基料(3)采用玻纤丝线交错编织而成。

6.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布，其特征在于，所述遮光涂层(4)采用聚丙烯酸甲酯涂层剂，且聚丙烯酸甲酯涂层剂中添加遮光剂。

7.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布，其特征在于，所述抗辐射层(2)、遮光基料(3)、遮光涂层(4)、抗皱层(5)均设置有两层，两层所述抗辐射层(2)、遮光基料(3)、遮光涂层(4)和抗皱层(5)关于基料层(1)上下对称设置。

8.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布，其特征在于，所述遮光涂层(4)的表面设置有印花(8)。