1.一种反应釜用均匀上料装置，其特征在于，包括：

固定面(1)和釜体(2)，所述釜体(2)上设有出料管(22)和进料斗(24)，所述釜体(2)的下端设有搅拌电机(21)和支腿(23)，支腿(23)和固定面(1)固定设置，所述固定面(1)上设有第一上料组(3)、第二上料组(4)、第三上料组(5)，所述第一上料组(3)、第二上料组(4)、第三上料组(5)均由储料主体(6)、上料管(61)、落料管(62)组成，所述上料管(61)上设有加强肋板(7)和稳定杆(8)，所述稳定杆(8)上设有承托板(81)，所述承托板(81)上设有阻尼防滑层(82)。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜用均匀上料装置，其特征在于：所述第一上料组(3)、第二上料组(4)、第三上料组(5)是以釜体(2)的竖向中轴线为中心均匀圆周排列设置。

3.根据权利要求1所述的一种反应釜用均匀上料装置，其特征在于：所述储料主体(6)上连接有上料管(61)，所述上料管(61)上设有落料管(62)，所述落料管(62)为朝向进料斗(24)的开口部位倾斜设置。

4.根据权利要求1所述的一种反应釜用均匀上料装置，其特征在于：所述加强肋板(7)设于上料管(61)的折弯部位。

5.根据权利要求1所述的一种反应釜用均匀上料装置，其特征在于：所述加强肋板(7)为碳纤维三角状结构板。

6.根据权利要求1所述的一种反应釜用均匀上料装置，其特征在于：所述稳定杆(8)和承托板(81)为一组，一共为竖向排列设置的三组并设置于上料管(61)的外壁上。

7.根据权利要求1所述的一种反应釜用均匀上料装置，其特征在于：所述阻尼防滑层(82)为弹性硅胶结构垫且其俯视面是与釜体(2)的外壁弧形面相匹配的内凹弧面结构。