1.一种具有镭雕、CCD和电阻检测的设备，其特征在于：包括机架（1），所述机架（1）上设有直线导轨（11），所述直线导轨（11）上设有可在直线导轨（11）上来回移动的载具（12），所述直线导轨（11）的侧面设有用于驱动载具（12）移动的电机，所述直线导轨（11）上设有第一工位和第二工位，所述载具（12）为一矩形框体，所述载具（12）的内框上设有若干个沿载具（12）周长方向分布的定位块；所述机架（1）上还设有第一位移模组，所述第一位移模组包括第一安装架（21）、设置在第一安装架（21）上的第一水平导轨（22）、安装在第一水平导轨（22）的第一竖直导轨（23）、安装在第一竖直导轨（23）的第一吸盘座（24）以及安装在第一吸盘座（24）上的若干个第一吸盘（25），所述第一吸盘座（24）可在直线导道的第一工位的正上方行走；所述机架（1）上还有龙门架（31），所述龙门架（31）的横梁位于第一工位的上方，所述龙门架（31）的横梁上安装有第三竖直轨道（32），所述第三竖直轨道（32）上设有电阻检测结构，所述电阻检测结构包括水平设置的检测支架（33），所述检测支架（33）的两端均设有一导通柱（34），所述检测支架（33）内设有连通导通柱（34）的检测电路；所述龙门架（31）的顶部还设有一CCD摄像头（41），所述CCD摄像头（41）垂直向下设置且CCD摄像头（41）的镜头对准待检测产品的表面；所述机架（1）上还设有第二位移模组，所述第二位移模组包括第二安装架（51）、设置在第二安装架（51）上的第二水平导轨（52）、安装在第二水平导轨（52）的第二竖直导轨（53）、安装在第二竖直导轨（53）的第二吸盘座（54）以及安装在第二吸盘座（54）上的若干个第二吸盘（55），所述第二吸盘座（54）可在直线导道的第二工位的正上方行走；所述机架（1）的底部还设有一镭雕机（61），所述镭雕机（61）位于第二工位的正下方，所述机架（1）上位于第二工位出设有可供镭雕机（61）工作的镭雕窗口（62）。

2.根据权利要求1 所述的一种具有镭雕、CCD和电阻检测的设备，其特征在于：所述机架（1）上还设有补光结构，所述补光结构设置在直线导轨（11）的中部外侧，所述补光结构包括补光支撑座以及安装在补光支撑座上的补光灯。

3.根据权利要求1 所述的一种具有镭雕、CCD和电阻检测的设备，其特征在于：所述机架（1）的顶部设有防护罩。