1.一种电镀添加剂反应釜，包括釜体(1)，其特征在于：所述釜体(1)的顶部螺纹连接有顶盖(2)，所述顶盖(2)上设置有清理组件(3)，所述清理组件(3)上设置有搅拌组件(4)；

所述清理组件(3)包括驱动件(31)，所述顶盖(2)的顶部转动连接有与驱动件(31)固定连接的螺杆(32)，且螺杆(32)的底部贯穿顶盖(2)并延伸至釜体(1)的内部，所述顶盖(2)的底部固定安装有限位杆(33)，所述螺杆(32)的外部螺纹套接有与限位杆(33)外部滑动套接的支撑板(34)，所述支撑板(34)的外周壁固定安装有与釜体(1)内壁相贴合的刷板(35)，所述支撑板(34)的底部固定安装有数量为两个的固定块(36)，两个所述固定块(36)的底部同时固定安装有输水管(37)，所述输水管(37)的外周壁连通有数量为多个的喷头(38)，所述输水管(37)的顶部连通有一端贯穿并延伸至顶盖(2)外部的通水管(39)。

2.根据权利要求1所述的一种电镀添加剂反应釜，其特征在于：所述搅拌组件(4)包括固定安装在驱动件(31)上的转杆(41)，且转杆(41)的底部贯穿顶盖(2)并延伸至釜体(1)的内部，所述转杆(41)的外部固定安装有搅拌杆(42)。

3.根据权利要求2所述的一种电镀添加剂反应釜，其特征在于：所述驱动件(31)包括固定安装在顶盖(2)顶部的驱动电机(311)，所述转杆(41)与驱动电机(311)的输出端固定连接，所述转杆(41)与螺杆(32)的外部均固定安装有皮带盘(312)，两个所述皮带盘(312)的外部同时传动安装有皮带(313)。

4.根据权利要求1所述的一种电镀添加剂反应釜，其特征在于：所述支撑板(34)的内部开设有与螺杆(32)相适配的第一螺纹通孔，所述支撑板(34)的内部开设有与限位杆(33)相适配的活动孔，所述支撑板(34)为环形板，所述输水管(37)为环形管，所述通水管(39)为伸缩管。

5.根据权利要求3所述的一种电镀添加剂反应釜，其特征在于：所述釜体(1)的外周壁开设有螺纹，所述顶盖(2)的内周壁开设有与螺纹相适配的第二螺纹通孔，所述顶盖(2)的顶部且位于驱动电机(311)的右侧连通有进料管，所述釜体(1)的底部连通有排料管。

6.根据权利要求2所述的一种电镀添加剂反应釜，其特征在于：所述螺杆(32)和限位杆(33)的底部均固定安装有限位块，所述螺杆(32)和转杆(41)均通过轴承与顶盖(2)转动连接。