1.半导体清洗机，包括清洗台(1)和回型网架(2)，所述回型网架(2)设于所述清洗台(1)上方，其特征在于：

所述清洗台(1)内下端开有清洁室(3)，所述清洗台(1)上端右侧固定有水泵(4)，所述水泵(4)左端连通有穿插进所述清洁室(3)内的抽液管(5)，所述水泵(4)上端连通有导液管(6)，所述导液管(6)左侧设有位于所述回型网架(2)上方的清洗组件；

所述回型网架(2)内侧设有装夹组件；所述回型网架(2)左侧设有旋转组件。

2.根据权利要求1所述的半导体清洗机，其特征在于：所述清洗台(1)上端且位于所述回型网架(2)下方开有废液槽(10)，所述废液槽(10)内中端相接有过滤网(11)，所述清洗台(1)左端相接有与所述废液槽(10)相通的废液管(12)，所述清洗台(1)右端相接有与所述清洁室(3)相通的进液管(22)。

3.根据权利要求1所述的半导体清洗机，其特征在于：所述清洗组件包括电伸缩轴(13)、伸缩管(15)及清洁喷头(16)，所述电伸缩轴(13)和所述伸缩管(15)从上至下依次相接于所述导液管(6)左上端，所述伸缩管(15)与所述导液管(6)相通，所述清洁喷头(16)连通于所述伸缩管(15)下端左侧。

4.根据权利要求3所述的半导体清洗机，其特征在于：所述清洗组件还包括烘干机(14)和烘干罩(17)，所述烘干机(14)固定于所述电伸缩轴(13)和所述伸缩管(15)左端，所述烘干罩(17)连通于所述烘干机(14)下端。

5.根据权利要求1所述的半导体清洗机，其特征在于：所述装夹组件包括下凹槽网板(18)、上凹槽网板(19)及T型杆(20)，所述下凹槽网板(18)共设有若干块且从左至右均匀相接于所述回型网架(2)内下端，所述上凹槽网板(19)共设有若干块且一一设于若个块所述下凹槽网板(18)正上方。

6.根据权利要求5所述的半导体清洗机，其特征在于：所述T型杆(20)共设有若干根且一一相接于若干块所述上凹槽网板(19)上端，所述T型杆(20)上端滑动贯穿出所述回型网架(2)上面，所述T型杆(20)上端右侧均螺纹贯穿有锁紧杆(21)，所述锁紧杆(21)下端均转动连接于所述回型网架(2)上端。

7.根据权利要求2所述的半导体清洗机，其特征在于：所述清洗台(1)上端且位于所述废液槽(10)左右两侧均固定有固定板(7)，所述回型网架(2)通过轴杆转动连接于左端的所述固定板(7)内侧。

8.根据权利要求7所述的半导体清洗机，其特征在于：所述旋转组件包括电机(8)和转动轴(9)，所述电机(8)通过螺栓固定于左端的所述固定板(7)外侧，所述转动轴(9)转动贯穿于左端的所述固定板(7)中端，所述转动轴(9)相接于所述电机(8)动力输出端与回型网架(2)左端之间。