1.一种有效防止免疫荧光实验中载玻片滑动的装置，包括上盖、底座与载玻片，所述上盖和底座配合形成闭合的培养容腔，其特征在于，所述上盖用于开合所述培养容腔，所述上盖相对于底座可分离设置；在所述底座的放置面上设置有防滑膜，所述防滑膜上承接多个所述载玻片，所述载玻片用于承载测试细胞。

2.根据权利要求1所述的一种有效防止免疫荧光实验中载玻片滑动的装置，其特征在于，所述防滑膜厚度为5μm‑10μm。

3.根据权利要求1所述的一种有效防止免疫荧光实验中载玻片滑动的装置，其特征在于，所述防滑膜上设置有多个可供书写的磨砂层，所述磨砂层厚度为5μm‑20μm。

4.根据权利要求3所述的一种有效防止免疫荧光实验中载玻片滑动的装置，其特征在于，所述磨砂层的设置位置与所述载玻片的放置位置相对应匹配。

5.根据权利要求1所述的一种有效防止免疫荧光实验中载玻片滑动的装置，其特征在于，所述底座上设有凹槽，所述凹槽的深度为1mm‑2mm。

6.根据权利要求5所述的一种有效防止免疫荧光实验中载玻片滑动的装置，其特征在于，所述凹槽呈十字型结构，所述凹槽将所述底座分隔为四个区域。

7.根据权利要求6所述的一种有效防止免疫荧光实验中载玻片滑动的装置，其特征在于，所述防滑膜与所述凹槽交错设置，避免防滑膜遮盖住所述凹槽。