1.一种原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂，其特征在于，所述Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂是由含硫化合物与含铋硝酸盐混合后经固相研磨退火，再原位还原而成，催化剂由Bi单质、氧缺陷和硫酸氧铋三相构成。

2.一种实施如权利要求1所述催化剂的原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一，将含硫化合物与含Bi可溶性盐进行固相研磨，进而干燥后退火，得到纯相硫酸氧铋；

步骤二，将纯相硫酸氧铋分散在超纯水溶剂中，并在细胞粉碎机中分散均匀；

步骤三，配置不同浓度的硼氢化钠溶液，控制硼氢化钠与硫酸氧铋之间的摩尔比，并将不同浓度的硼氢化钠溶液逐滴滴加到硫酸氧铋溶液中；

步骤四，将反应完成后的溶液静置，沉淀，通过超纯水和有机溶剂对沉淀进行多次洗涤离心；将最后一次洗涤后的沉淀干燥后，得到Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂。

3.如权利要求2所述原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤一中含硫化合物为硫化钠、硫脲、硫代乙酰胺或半胱氨酸中的任意一种，所述步骤一中的含Bi可溶性盐为五水合硝酸铋。

4.如权利要求2所述原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤一中含硫化合物与含Bi可溶性盐的之间的摩尔比为1:1，2:1，3:1，4:1或5:1中的一种。

5.如权利要求2所述原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤一中的退火温度为500℃，退火时间为180min。

6.如权利要求2所述原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤一中的干燥温度为60℃，干燥时间为12h。

7.如权利要求2所述原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤二中的细胞粉碎机的功率均为100～500W，粉碎时间均为5～30min。

8.如权利要求2所述原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤二中的细胞粉碎机的功率优选为200W，粉碎时间优选为10min。

9.如权利要求2所述原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤三中的硼氢化钠与硫酸氧铋之间的摩尔比为1:5或2:5或4:5或8:5。

10.一种如权利要求1所述原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂在光催化去除氮氧化物中的应用。