1.一种污水处理双沉淀设备，其特征在于：它包括支架A、转接座、沉淀机构A、沉淀机构B、电机B，其中支架A中安装有被电机B同步驱动且旋转方向相反的沉淀机构A和沉淀机构B；

沉淀机构A和沉淀机构B与支架A上的转接座弧面配合，且沉淀机构A与沉淀机构B之间的落差为沉淀机构A或沉淀机构B内水位高度的若干分之一；转接座、沉淀机构A及沉淀机构B上具有使得沉淀机构A内污水在自重作用下向沉淀机构B中自行小落差转移的结构，且沉淀机构A和沉淀机构B上均具有在其旋转90度后对其内污水进行沉淀及在其旋转复位后实现沉淀物转移并向下外排沉淀物的结构；沉淀机构B上具有向外排水的结构；

所述沉淀机构A包括沉淀筒A、隔板A、注液管A、注液管B、堵塞A、弹簧B，其中沉淀筒A两端具有与支架A旋转配合的转轴A；沉淀筒A内具有将其分隔成若干等高容水空间且在其旋转过程中使得容水空间内的水侧流的若干隔板A；每个隔板A上方的容水空间的端壁上均具有向其内注入污水的注液管A和向其内注入絮凝剂的注液管B；最下端隔板A下方的容水空间内具有外排沉淀物的结构；由隔板A形成的每个容水空间的底部侧壁均具有若干与转接座的弧面上连通槽一一对应的出水口，每个出水口处均安装有导框，导框内滑动有对相应出水口开关的堵塞A并安装有对堵塞A复位的弹簧B；

所述沉淀机构B包括沉淀筒B、隔板B、转轴B、注液管B、排水管、滑杆、堵塞B、电动推杆，其中沉淀筒B两端具有与支架A旋转配合的转轴B；沉淀筒B内具有将其分隔成若干等高容水空间且在其旋转过程中使得容水空间内的水侧流的若干隔板B；每个隔板B上方的容水空间的端壁上均具有向其内注入絮凝剂的注液管B；由隔板B形成的每个容水空间的底部侧壁均具有若干与转接座的弧面上连通槽一一对应的进水口；沉淀筒B顶部沿其轴线分布的若干滑槽C内均滑动有被电动推杆驱动的滑杆，每个滑杆上均具有若干与隔板B一一对应且对隔板B上排水孔开关的堵塞B；最下端隔板B下方的容水空间内安装有与外界连通的排水管及外排沉淀物的结构，最下端隔板B上的若干排水孔分别通过支管与排水管连通；

所述沉淀筒B内被隔板B分隔成的最上端容水空间的顶部在沉淀筒A上出水口与转接座上连通槽一一对应相对且沉淀筒B上进水口与转接座上连通槽一一对应相对时低于沉淀筒A内被隔板A分隔成的最上端容水空间的底部；

所述转接座上的连通槽内滑动有与相应堵塞A配合且保持连通槽始终处于打开状态的驱动杆；同步连接竖直分布的驱动杆的同步杆滑动连接于与竖直分布的连通槽相通的滑槽A内；驱动杆始终使得相应连通槽与滑槽A相通的两个槽口处于关闭状态；转接座上安装有若干与同步杆一一对应且对相应同步杆复位的弹簧A；转接座上的若干滑槽B内竖直滑动有被电机A驱动的支架B，支架B上具有若干与同步杆一一对应且与同步杆上端斜杆配合的斜板；安装于电机A输出轴的齿轮A与支架B上的齿条啮合。

2.根据权利要求1所述的一种污水处理双沉淀设备，其特征在于：所述沉淀筒A中最下端隔板A下方的容水空间内安装有与沉淀筒A外排渣泵连通的排渣管，排渣管与最下端隔板A下方的容水空间的底部具有间隙且排渣管底部沿轴线密布有吸渣口；沉淀筒B中最下端隔板B下方的容水空间内安装有与沉淀筒B外排渣泵连通的排渣管，排渣管与最下端隔板B下方的容水空间的底部具有间隙且排渣管底部沿轴线密布有吸渣口。

3.根据权利要求1所述的一种污水处理双沉淀设备，其特征在于：所述电机B的输出轴与支架A旋转配合；电机B输出轴上安装有齿轮B和带轮A；齿轮B与转轴A上安装的齿轮C啮合，带轮A通过同步带与转轴B上的带轮B传动连接。

4.根据权利要求3所述的一种污水处理双沉淀设备，其特征在于：所述带轮A与带轮B的传动比等于齿轮B与齿轮C的传动比。