1.一种触摸屏清洁保护剂，其特征在于：包括清洗成分和保护成分，体积比为1：（0.6～

1），两者分开使用，先采用清洗成分进行清洗，清洗完成后再采用保护成分进行表面保护处理；所述清洗成分包括3～5份硅酸钠、5～10份吸附微粒、0.6～1.2份阴离子表面活性剂以及30～60份水；所述保护成分为高分子聚合物乳液；

所述吸附微粒的制备方法包括以下步骤：

（1）在反应容器中将壳聚糖溶于醋酸溶液，在80～90℃、通氮、搅拌条件下加入硝酸铈铵溶液，然后将顺芷酸酐用丙酮溶解后缓慢滴加至反应容器中，搅拌反应2～4h后，除杂后得顺芷酸酐接枝壳聚糖；

（2）往步骤（1）得到的顺芷酸酐接枝壳聚糖中滴加去离子水、不饱和聚氧乙烯醚和引发剂的混合液，搅拌反应4～6h；

（3）将硅藻土置于多聚磷酸钠水溶液中浸渍10～20min后，过滤，得到预处理的硅藻土，将步骤（2）得到的反应液的pH值调节至5～6，然后缓慢加入预处理的硅藻土，加完后静置30～60min，过滤、清水洗涤、干燥，即得吸附微粒；

壳聚糖、顺芷酸酐、不饱和聚氧乙烯醚的摩尔比为1：（1.4～2.4）：（1～1.5），硝酸铈铵溶液的加入量以硝酸铈铵计为壳聚糖的5～10%；

步骤（2）中，去离子水的加入量为顺芷酸酐接枝壳聚糖的40～80倍，引发剂的加入量为不饱和聚氧乙烯醚的0.08～0.2%；步骤（3）中，多聚磷酸钠水溶液的浓度为1～2mg/mL，pH值为7～8，硅藻土、多聚磷酸钠水溶液以及步骤（2）得到的反应液的质量比为1：（0.8～2）：（4～10）；

所述高分子聚合物乳液的制备方法包括以下步骤：

S1、将蔗糖溶于溶剂中，然后加入不饱和脂肪酸乙酯和催化剂，在减压加热条件下反应

4～6h，即得不饱和脂肪酸蔗糖酯；

S2、将步骤S1得到的不饱和脂肪酸蔗糖酯与去离子水、第一份氧化还原引发剂混合均匀，得到溶液一备用，将丙烯酸、丙烯酸酯、第二份氧化还原引发剂、去离子水混合均匀，得到溶液二备用；

S3、将去离子水、乳化剂、乙烯基硅油置于反应罐中，恒温80～90℃乳化1～2h，然后降温至50～60℃，逐滴加入苯乙烯和偶氮二异庚腈引发剂，搅拌反应2～3h；

S4、将反应釜的温度升高至70～80℃，分别滴加步骤S2得到的溶液一和溶液二，搅拌反应3～4h，即得高分子聚合物乳液；

步骤S1中，蔗糖、不饱和脂肪酸乙酯的摩尔比为1：（1.2～1.4），所述催化剂为碳酸钾或者氢氧化钾，催化剂的加入量为0.3～0.5%；所述不饱和脂肪酸乙酯为油酸乙酯、芸香酸乙酯、亚油酸乙酯或者亚麻酸乙酯；

步骤S2中，不饱和脂肪酸蔗糖酯与去离子水、第一份氧化还原引发剂的质量比为1：（3～6）：（0.006～0.01），丙烯酸、丙烯酸酯、第二份氧化还原引发剂、去离子水的质量比为1：（1～2）：（0.01～0.02）：（4～8）；氧化还原引发剂为过氧化苯甲酰/N，N‑二甲基苯胺或者过氧化苯甲酰/N，N‑二乙基苯胺；

步骤S3中，去离子水、乳化剂、乙烯基硅油的质量比为（7～8）：（0.02～0.05）：1，乙烯基硅油与苯乙烯的摩尔比为1：（1～1.1），偶氮二异庚腈引发剂的加入量为苯乙烯质量的0.1～0.3%；

乙烯基硅油、溶液一中的不饱和脂肪酸蔗糖酯、溶液二中的丙烯酸、溶液二中的丙烯酸酯四者的摩尔比为1：（0.1～0.2）：（0.4～0.7）：（0.8～1）。

2.一种根据权利要求1所述的清洁保护剂在制备触摸屏中的应用，其特征在于：具体应用方法包括以下步骤：在触摸屏加工工艺中，先将经过ITO蚀刻后的触摸屏置于清洗槽一中，然后加入清洗成分，浸泡20～30min后取出，放入清洗槽二中，加入质量比为1：（1～5）的去离子水、无水乙醇混合均匀，同时通入二氧化碳直至体系中不出现沉淀即可停止通气，静置10～30min，然后将触摸屏取出放入浸泡槽中，加入保护成分浸泡5～10min取出，在100～110℃烘烤1～2h，然后冷却30～50min，即可进入下一道工序；

所述清洗槽二包括槽体和漏网，所述漏网通过弹簧或弹性带与槽体内部水平连接，所述槽体的顶端纵向设置有空心槽，所述空心槽正下方对应的漏网表面设置有卡槽，在触摸屏清洗时，触摸屏的顶端置于空心槽的内部，其底端与卡槽相匹配，使得触摸屏竖直放置于槽体内；

所述空心槽的内部体积大于与触摸屏的接触部位的体积，所述空心槽的内表面为弹性材料，所述卡槽与触摸屏固定连接，所述漏网在电机带动下可以做平面往复运动，并带动触摸屏的底端往复运动。