1.一种光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池，其特征在于，所述光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池包括：气体扩散光电阴极池和气体扩散光电阳极池；

所述气体扩散光电阴极池和气体扩散光电阳极池为水平对置同侧受光构型；

所述气体扩散光电阴极池和气体扩散光电阳极池中间夹设有离子交换膜组件；

所述气体扩散光电阴极池包括通过螺栓贯穿连接的石英窗片组件、光电阴极液流室、气体扩散光电阴极和阴极流道板；

所述气体扩散光电阴极和阴极流道板位于光电阴极液流室下侧，所述石英窗片组件位于光电阴极液流室上侧；

所述气体扩散光电阳极池包括通过螺栓贯穿连接的石英窗片组件、光电阳极液流室、气体扩散光电阳极和阳极流道板；

所述气体扩散光电阳极和阳极流道板位于光电阳极液流室下侧，所述石英窗片组件位于光电阳极液流室上侧。

2.如权利要求1所述的光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池，其特征在于，所述光电阴极液流室外端安装有参比电极。

3.如权利要求1所述的光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池，其特征在于，所述石英窗片组件包括由上至下依次设置的光窗盖板组件、硅胶密封圈和石英窗片。

4.如权利要求1所述的光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池，其特征在于，所述离子交换膜组件采用阴离子交换膜、阳离子交换膜或双极膜。

5.一种光电催化N2还原装置，其特征在于，所述光电催化N2还原装置设置有权利要求1～4任意一项所述的光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池。

6.一种光电催化NO还原装置，其特征在于，所述光电催化NO还原装置设置有权利要求1～4任意一项所述的光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池。

7.一种光电催化CO2还原协同甲烷氧化装置，其特征在于，所述光电催化CO2还原协同甲烷氧化装置设置有权利要求1～4任意一项所述的光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池。

8.一种实际日光工况下光电催化反应器，其特征在于，所述实际日光工况下光电催化反应器设置有权利要求1～4任意一项所述的光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池，所述光电催化用水平对置双光窗气体扩散电解池与自助追光装置的偶联应用。