1.一种钒氧化物纳米片阵列的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将V2O5和还原剂于反应介质中发生还原反应，除杂、烘干后，制得所述钒氧化物纳米片阵列；所述还原剂为弱酸性强还原剂，所述弱酸性强还原剂选自抗坏血酸和亚硫酸氢钠中的一种；所述V2O5与还原剂的质量比为（1~10）:1；所述反应介质选自N,N‑二甲基甲酰胺，二甲基亚砜和乙腈中的一种或多种；还原反应的温度为60 120℃，还原反应的时间为0.5~ ~

10h；所述钒氧化物纳米片阵列的分子式为V10O24·12H2O；所述钒氧化物纳米片阵列的比表面积为6 10 m²/g；所述钒氧化物纳米片阵列中，纳米片的厚度为10 20nm，纳米片的层间距~ ~为50 200 nm。

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2.一种由如权利要求1所述的制备方法制得的钒氧化物纳米片阵列。

3.一种如权利要求2所述的钒氧化物纳米片阵列作为正极活性材料在锌离子电池中的应用。

4.一种锌离子电池，其特征在于：包括正极、负极和隔膜，所述正极包括导电炭黑、粘结剂和如权利要求2所述的钒氧化物纳米片阵列。