1.一种多孔硅化铜金属间化合物材料的制备方法，其特征在于：所述多孔硅化铜金属间化合物的孔道结构包括微孔和介孔，且微孔和介孔呈无序分布，其中微孔的含量占10～2

40％，介孔的含量占60～90％；所述多孔硅化铜金属间化合物的比表面积为400～600m/g；

所述多孔硅化铜金属间化合物中，铜和硅元素的摩尔比为0.4～5:1；所述制备方法包括：

1)将铜前驱体与含硅化合物混合，其中前驱体和含硅化合物的投料质量比为1：0.8～

1.4，置于惰性气氛或者空气气氛下，在行星球磨仪中进行充分研磨；

2)将步骤1)所得的研磨后的材料置入恒温微波摇床，进行微波消解处理，所述的微波消解处理的频率为300MHz～300GHz，处理时间为0.1～24h；

3)将步骤2)所得的混合物置于惰性气氛的焦耳加热炉中，用碳热震荡法进行快速升降温处理，所述的碳热震荡法温度为200～3200℃，冲击持续时间为0.1～3秒，加热/冷却速率为10～2000℃每秒；

4)将步骤3)所得的材料置于去离子水中进行超声洗涤，然后进行真空干燥处理，即得到所述的多孔硅化铜金属间化合物材料。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤1)中所述的铜前驱体选自铜粉、氯化铜、硝酸铜、硫酸铜、氧化铜、氧化亚铜、氢氧化铜、磷化铜、硫化铜、硒化铜、醋酸铜中的至少一种；所述的含硅化合物选自纳米硅粉、硅藻土、乙酸硅、三甲基硅咪唑、二氧化硅、硅土、硅酸、硅化硼中的一种或多种。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤1)中，球磨转速为100～100000rpm，球磨时间为0.5～24h。

4.一种多孔硅化铜金属间化合物的制备方法，其特征在于：所述多孔硅化铜金属间化合物的孔道结构包括微孔和介孔，且微孔和介孔呈无序分布，其中微孔的含量占10～40％，2

介孔的含量占60～90％；所述多孔硅化铜金属间化合物的比表面积为400～600m /g；所述多孔硅化铜金属间化合物中，铜和硅元素的摩尔比为0.4～5:1；所述制备方法包括以下步骤：a)将含铜前驱体和含硅化合物混合，其中前驱体和含硅化合物的投料质量比为1：0.8～1.4，对所得混合物进行微波消解处理，所述的微波消解处理的频率为300MHz～300GHz，处理时间为0.1～24h，得到硅铜骨架材料；

b)将所述硅铜骨架材料在电解池中进行固态电解工艺处理，电解质使用NASICON型氧化物固态电解质，电极阳极采用CW104C铜合金，阴极采用碳纳米纤维，所述固态电解工艺电‑2解时间为0.5～3h，电流密度为10～500mA·cm ，收集阴极沉积物即得到多孔硅化铜金属间化合物材料。

5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于：步骤b)中，电解时间为0.5～3h，电流密‑2度为100～500mA·cm 。

6.根据权利要求1或4所述制备方法制得的多孔硅化铜金属间化合物作为催化剂在乙炔氢氯化合成氯乙烯反应中的应用。

7.如权利要求6所述的应用，其特征在于：所述应用具体为：在固定床反应器内，装入所述多孔硅化铜金属间化合物，通入原料气氯化氢和乙炔，在120～300℃的反应温度下反应生成氯乙烯。