1.一种高熵合金粉末，其特征在于，所述高熵合金粉末按原子百分比包括Ti：20％～

21.56％、Zr：20％～21.56％、Cu：20％～21.56％、Ni：20％～21.56％、Al：10％～10.76％、Co:3％～10％。

2.根据权利要求1所述的高熵合金粉末，其特征在于，所述高熵合金粉末的粒径为50～

180μm。

3.权利要求1或2所述的高熵合金粉末制备的高熵非晶‑纳米晶涂层。

4.根据权利要求3所述的高熵非晶‑纳米晶涂层，其特征在于，所述高熵非晶‑纳米晶涂层的维氏硬度＞750HV，所述高熵非晶‑纳米晶涂层的厚度为100～500μm。

5.一种权利要求3或4所述高熵非晶‑纳米晶涂层的制备方法，其特征在于，以钛合金为基板，通过激光熔覆工艺将权利要求3或权利要求4所述的高熵合金粉末涂覆在基板表面制得。

6.权利要求5所述的高熵非晶‑纳米晶涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)采用气雾化制粉工艺制TiZrCuNiAl0.5高熵合金粉末；

(2)合成高熵合金粉末：将TiZrCuNiAl0.5高熵合金粉末及Co粉末材料经球磨混合均匀，用筛网进行筛分，得到混合粉末，对混合粉末进行烘干备用；

(3)钛合金基板打磨喷砂：利用喷砂去除钛合金基板表面的氧化层和杂质，利用酒精擦拭去除钛合金基板表面的油污和水渍，将钛合金基板预热；

(4)激光熔覆获得涂层：将高熵合金粉末熔融，在惰性气体保护下，利用激光熔覆工艺将其涂覆在预热的钛合金基板表面即得。

7.根据权利要求6所述的高熵非晶‑纳米晶涂层的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述气雾化制粉工艺是在惰性气体氩气的保护下，用高压惰性氩气气流将金属液流粉碎成小液滴并快速冷凝成粉末。

8.根据权利要求6所述的高熵非晶‑纳米晶涂层的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，气雾化制粉时，Ti、Zr、Cu、Ni、Al均为质量分数>99.99％的纯金属单质，精炼的温度为1500～1600℃，精炼的时间为5～15min，中间保温的温度为1300～1400℃，保温的时间为20～

40min，雾化压力为3～5MPa。

9.根据权利要求6所述的高熵非晶‑纳米晶涂层的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，球磨混合时，球磨罐和研磨球均为刚玉材质，速率为200～300r/min。

10.根据权利要求5所述的高熵非晶‑纳米晶涂层的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，激光熔覆涂层时，激光功率800～1200W，扫描速度为360～720mm/min，惰性气体为氩气。