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专利号: 2022105896852
申请人: 合肥工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-12-30
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:将熔渗剂均匀铺在钨合金纳米涂层表面,使用高温管式炉进行熔渗,使钨合金纳米涂层表面致密化、均匀化。

2.根据权利要求1所述的一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:所述钨合金纳米涂层制备方法如下,将混合粉末与基体方块一起装入振动室中进行球磨,进行表面机械纳米合金化处理。

3.根据权利要求2所述的一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:所述表面机械纳米合金化处理的保护气氛选择氩气,球磨介质选用40‑50颗直径为4‑8mm的不锈钢钢球,球磨机转速1725转/min,工作方式为∞式三维运动。

4.根据权利要求2所述的一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:所述混合粉末包括W和Cu,所述W与Cu的质量比为10‑7:0‑3,所述混合粉末的粒径为10‑50μm。

5.根据权利要求2所述的一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:所述表面机械纳米合金化处理时间为60‑120min。

6.根据权利要求1所述的一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:所述2

熔渗剂为铜粉,铜粉的粒径为1‑10μm,铜粉质量与待熔渗面面积的关系为0.125‑0.5g/cm。

7.根据权利要求1所述的一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:所述熔渗气氛为氢气,氢气流量为0.2‑0.5L/min。

8.根据权利要求1所述的一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:所述熔渗温度为1200‑1400℃,熔渗时间为60‑240min。

9.根据权利要求1所述的一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,其特征在于:所述高质量抗辐照钨合金涂层的厚度为80‑120μm。