1.一种用于基于被动成像对认证对象进行认证的方法，所述方法包括：使用成像系统捕获所述认证对象的一组图像，所述成像系统位于距离在所述一组图像中可见的认证对象的多个确定性结构的第一确定性结构的认证成像距离处；

对所述一组图像进行处理，以测量所述多个确定性结构中的所述第一确定性结构的至少第一认证维度和第二确定性结构的第二认证维度；

从注册数据库中获取注册维度，所述注册数据库是通过在先前注册过程中测量至少所述第一确定性结构和所述第二确定性结构所获得的；

基于所述第一认证维度与所述注册维度之间的关系计算所述认证成像距离，并基于所述认证成像距离与所述注册维度之间的关系为所述第二确定性结构计算预期成像距离；

计算认证标准化因子，所述认证标准化因子作为所述第一认证维度和所述第二认证维度之间的比率，并基于所述注册维度和所述认证成像距离为所述第二确定性结构在所述预期成像距离处计算预期标准化因子；以及基于将所述认证标准化因子与所述预期标准化因子进行比较来所述认证对象进行认证。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

输出用户可感知的认证结果，以指示所述认证结果是授权还是拒绝认证。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述获取注册维度包括，从所述注册数据库中获取通过在所述先前注册过程中测量所述第一确定性结构所获得的第一注册维度，通过在所述先前注册过程中测量所述第二确定性结构所获得的第二注册维度，以及在所述注册过程中所计算的所述第一确定性结构和所述第二确定性结构之间的注册成像距离增量。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述第二注册维度、所述第一认证维度和所述第二认证维度是根据基于所述第一注册维度在所述先前注册过程中所定义的单位维度来测量的。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述认证成像距离是作为所述成像系统的聚焦特性的函数和比率计算的，所述比率为第一注册维度与所述第一认证维度之间的比率，所述第一注册维度是通过在所述先前注册过程中测量所述第一确定性结构所获得的。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，通过将所述认证成像距离与注册成像距离增量相加，计算所述第二确定性结构的预期成像距离，所述注册成像距离增量是在所述先前注册过程中从所述成像系统到所述第一确定性结构和所述第二确定性结构中的每一个的各自成像距离之间的差。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二确定性结构的预期标准化因子作为第二注册维度的函数和所述认证成像距离与所述预期成像距离之间的比率计算的，所述第二注册维度是通过在所述先前注册过程中测量所述第二确定性结构所获得的。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述捕获包括用放大的所述成像系统在所述认证对象上捕捉所述一组图像中的至少一个，以形成具有增加的深度分辨率的所述一组图像中的至少一个。

9.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述多个确定性结构包括所述第一确定性结构，以及包括所述第二确定性结构的多个其他确定性结构；

对所述一组图像进行处理包括处理所述一组图像以测量所述第一确定性结构的所述第一认证维度和所述多个其他确定性结构中的每一个的各自的其他认证维度；

所述获取注册维度包括，获取在所述先前注册过程中通过测量参考确定性结构和所述多个其他确定性结构所获得的注册维度；

所述计算预期成像距离包括为所述多个其他确定性结构中的每一个计算各自的预期成像距离；

所述计算认证标准化因子包括为所述多个其他确定性结构中的每一个计算各自的认证标准化因子；

所述计算预期标准化因子包括为所述多个其他确定性结构中的每一个在各自的预期成像距离处计算各自的预期标准化因子；以及基于将多个各自的认证标准化因子与相应的多个各自的预期标准化因子进行比较，对所述认证对象进行认证。

10.根据权利要求9所述的方法，其中：

所述认证对象的多个其他确定性结构中的至少第一个是宏观结构；以及所述认证对象的多个其他确定性结构中的至少第二个是微观结构。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述对所述认证对象进行认证包括基于所述认证对象的多个确定性结构中的至少一部分的生物特征验证和欺骗检测。

12.一种基于被动成像对认证对象进行认证的系统，所述系统包括：注册数据库，其上存储有通过在先前注册过程中测量认证对象的多个确定性结构所获得的多个注册维度；

成像子系统，用于捕获所述认证对象的一组图像，而所述认证对象是距离所述多个确定性结构的第一确定性结构的认证成像距离；以及控制和处理模块，其具有一个或多个处理器和一个存储器，所述存储器上存储有一组指令，所述一组指令在执行时使所述一个或多个处理器执行以下步骤：对所述一组图像进行处理，以测量所述多个确定性结构中的所述第一确定性结构的至少第一认证维度和第二确定性结构的第二认证维度；

基于所述第一认证维度与所述注册维度之间的关系计算所述认证成像距离；

基于所述认证成像距离与所述注册维度之间的关系为所述第二确定性结构计算预期成像距离；

计算认证标准化因子，所述认证标准化因子作为所述第一认证维度和所述第二认证维度之间的比率；

基于所述注册维度和所述认证成像距离为所述第二确定性结构在所述预期成像距离处计算预期标准化因子；以及基于将所述认证标准化因子与所述预期标准化因子进行比较来对所述认证对象进行认证。

13.根据权利要求12所述的系统，还包括：

输出接口，与所述控制和处理模块通信，以响应并指示所述控制和处理模块对所述认证对象进行认证，输出用户可感知的认证结果。

14.根据权利要求12所述的系统，还包括：

电子访问控制系统，具有注册数据库、所述成像子系统以及集成在其中的所述控制和处理模块，其中，所述电子访问控制系统用于基于所述认证授权或拒绝对物理或电子资源的访问。

15.根据权利要求12所述的系统，其中：

所述多个注册维度包括，通过在所述先前注册过程中测量所述第一确定性结构所获得的第一注册维度；以及所述第一认证维度和所述第二认证维度是根据基于所述第一注册维度在所述先前注册过程中所定义的单位维度来测量的。

16.根据权利要求12所述的系统，其中：

所述认证成像距离是作为所述成像子系统的聚焦特性的函数和比率计算的，所述比率为第一注册维度与所述第一认证维度之间的比率，所述第一注册维度是通过在所述先前注册过程中测量所述第一确定性结构所获得的所述多个注册维度之一。

17.根据权利要求12所述的系统，其中：

通过将所述认证成像距离与注册成像距离增量相加来为所述第二确定性结构计算预期成像距离，所述注册成像距离增量是在所述先前注册过程中表示从所述成像子系统到所述第一确定性结构和所述第二确定性结构的每一个的各自成像距离之间的差。

18.根据权利要求12所述的系统，其中：

所述第二确定性结构的预期标准化因子作为第二注册维度的函数和所述认证成像距离与所述预期成像距离之间的比率计算的，所述第二注册维度是通过在所述先前注册过程中测量所述第二确定性结构所获得的所述多个注册维度之一。

19.根据权利要求12所述的系统，其中：

所述多个确定性结构包括所述第一确定性结构，以及包括所述第二确定性结构的多个其他确定性结构；

对所述一组图像进行处理包括处理所述一组图像以测量所述第一确定性结构的第一认证维度和所述多个其他确定性结构中的每一个的各自的其他认证维度；

所述注册维度是通过获取在所述先前注册过程中通过测量参考确定性结构和所述多个其他确定性结构所获得的注册维度；

所述计算预期成像距离包括为所述多个其他确定性结构中的每一个计算各自的预期成像距离；

所述计算认证标准化因子包括为所述多个其他确定性结构中的每一个计算各自的认证标准化因子；

所述计算预期标准化因子包括为所述多个其他确定性结构中的每一个在各自的预期成像距离处计算各自的预期标准化因子；以及基于将多个各自的认证标准化因子与相应的多个各自的预期标准化因子进行比较，对所述认证对象进行认证。

20.根据权利要求19所述的系统，其中：

所述认证对象的多个其他确定性结构中的至少第一个是宏观结构；以及所述认证对象的多个其他确定性结构中的至少第二个是微观结构。