1.一种混合湿润性砂岩微观模型的制备装置，其特征在于，所述制备装置包括：固定架和位于所述固定架上方的光源，所述固定架包括架体和由上而下依次间隔设置于所述架体的多个遮光板，以及位于多个所述遮光板下方的夹固板；

所述夹固板用于固定所述砂岩微观模型，多个所述遮光板分别预制有多个透光通道，且多个所述透光通道内部具有自上而下依次增大或减小的遮光区域，相邻两个所述遮光板的遮光区域位置相对应，以使所述光源发出的光线能够依次经过多个所述透光通道后照射于所述砂岩微观模型；

所述制备装置还包括激光发射器，所述固定架还包括调节组件和分别设置于多个所述遮光板的多个接收器，多个所述遮光板分别开设有多个透光孔，多个所述接收器靠近多个所述透光孔设置；

所述调节组件用于调整多个所述遮光板的位姿，以使所述激光发射器发出的信号能够依次穿经多个所述透光孔，并被多个所述接收器所接收。

2.如权利要求1所述的一种混合湿润性砂岩微观模型的制备装置，其特征在于，所述调节组件包括横向调节件和纵向调节件，所述横向调节件用于调整多个所述遮光板在水平方向上的位置，所述纵向调节件用于调整多个所述遮光板在所述架体上的高度。

3.如权利要求2所述的一种混合湿润性砂岩微观模型的制备装置，其特征在于，所述横向调节件和所述纵向调节件均为一个，以实现对于多个所述遮光板的同步调节；

或者，所述横向调节件和所述纵向调节件均为多个，以实现对于多个所述遮光板的异步调节。

4.如权利要求1所述的一种混合湿润性砂岩微观模型的制备装置，其特征在于，所述制备装置还包括分别设置于多个所述遮光板的水平仪，且相邻两个所述遮光板之间的距离相等，以在所述水平仪检测到多个所述遮光板均处于水平状态时减少光线的漫反射。

5.一种混合湿润性砂岩微观模型的制备方法，其特征在于，所述砂岩微观模型包括基体和与所述基体相配合的盖体，所述方法包括如下步骤：将所述基体/所述盖体放置于如权利要求1‑4任一项所述的一种混合湿润性砂岩微观模型的制备装置中的夹固板上；

通过调节组件调整多个遮光板的位姿，以使多个接收器均能够接收到激光发射器所发出的信号；

打开光源，并使光源发出的光线依次穿过多个遮光板的多个透光通道照射于所述基体/所述盖体；

在达到预设的照射时间之后，将多个所述遮光板依次从架体中取出，得到具备混合湿润性的基体/盖体。

6.如权利要求5所述的混合湿润性砂岩微观模型的制备方法，其特征在于，在将所述基体/所述盖体放置于夹固板上之前，所述方法还包括基体/盖体制备阶段：根据实验要求选取砂岩样本，并获取所述砂岩样本的孔隙度数据；

将所述砂岩样本的内部结构简化为均质结构，并根据获取到的孔隙度数据构建与所述砂岩样本孔隙度相同的基材；

对所述基材进行刻蚀，以形成具有相同微观结构的基体和盖体。

7.如权利要求6所述的混合湿润性砂岩微观模型的制备方法，其特征在于，在将所述基体/所述盖体放置于夹固板之前，所述方法还包括遮光板制备阶段：获取所述砂岩样本的微观组分，并按照每种微观组分接触角的大小将其划分为多个湿润性等级；

根据多个所述湿润性等级中砂岩颗粒的分布位置制作与所述基体相对应的多个第一遮光板；

根据多个所述湿润性等级中砂岩颗粒分布位置的镜像图案制作与所述盖体相对应的多个第二遮光板。

8.如权利要求7所述的混合湿润性砂岩微观模型的制备方法，其特征在于，所述在达到预设的照射时间之后，将多个所述遮光板分别从架体中取出，得到具备混合湿润性的基体/盖体包括：根据所述砂岩样本中每种微观组分接触角的大小与照射时间的变化曲线，调整光源的照射时间；

在达到预设的照射时间之后，将多个所述第一遮光板/多个所述第二遮光板自上而下依次从架体中取出，得到具备混合湿润性的基体/盖体。

9.如权利要求8所述的混合湿润性砂岩微观模型的制备方法，其特征在于，所述基体和/或所述盖体分别开设有介质入口和介质出口，在得到具备混合湿润性的基体/盖体之后，所述方法还包括：将所述基体与所述盖体进行键合以形成具备混合湿润性的砂岩微观模型；

通过所述介质入口向所述砂岩微观模型中注入介质，并使得介质经由所述介质出口流出。