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专利号: 2022100523390
申请人: 武汉工程大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-12-17
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种气动光学效应校正方法,其特征在于,包括:获取热辐射退化图像;

对所述热辐射退化图像进行滤波处理,确定热辐射估计图像;

根据所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像进行贝塞尔曲面拟合,确定潜在清晰图像,并判断所述潜在清晰图像是否满足预设条件;

若不满足所述预设条件,则更新所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像,返回至所述根据所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像进行贝塞尔曲面拟合,确定潜在清晰图像,并判断所述潜在清晰图像是否满足预设条件的步骤;

若满足所述预设条件,则输出所述潜在清晰图像。

2.根据权利要求1所述的气动光学效应校正方法,其特征在于,所述对所述热辐射退化图像进行滤波处理,确定热辐射估计图像,包括:对所述热辐射退化图像进行双边滤波处理,得到所述热辐射估计图像。

3.根据权利要求1所述的气动光学效应校正方法,其特征在于,所述根据所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像进行贝塞尔曲面拟合,确定潜在清晰图像,并判断所述潜在清晰图像是否满足预设条件,包括:根据所述热辐射估计图像依次进行下采样处理和参数化处理,确定参数化矩阵;

根据所述参数化矩阵和预设的曲面阶数,确定拟合的贝塞尔曲面;

根据所述热辐射退化图像和所述贝塞尔曲面,确定所述潜在清晰图像;

根据所述潜在清晰图像,判断是否满足所述预设条件。

4.根据权利要求3所述的气动光学效应校正方法,其特征在于,所述根据所述热辐射估计图像依次进行下采样处理和参数化处理,确定参数化矩阵,包括:根据所述热辐射估计图像进行下采样处理,确定对应的下采样矩阵;

根据所述下采样剧本进行参数化处理,确定所述参数化矩阵,通过如下公式表示:其中, , 表示所述参数化矩阵, 表示所述参数化矩阵的横坐标, 表示所述参数化矩阵的纵坐标, 表示第一方向的弦长,表示第二方向的弦长,通过如下公式表示:

其中, 表示所述下采样矩阵, 表示所述下采样矩阵的第一坐标分量, 表示所述下采样矩阵的第二坐标分量, 表示所述下采样矩阵的第三坐标分量, 、、和 分别表示整数。

5.根据权利要求3所述的气动光学效应校正方法,其特征在于,所述根据所述参数化矩阵和预设的曲面阶数,确定拟合的贝塞尔曲面,包括:根据所述参数化矩阵和所述曲面阶数,确定所述贝塞尔曲面对应的基函数;

根据所述基函数,确定所述贝塞尔曲面对应的曲面控制点;

根据所述曲面控制点进行拟合,确定所述贝塞尔曲面。

6.根据权利要求3所述的气动光学效应校正方法,其特征在于,所述根据所述贝塞尔曲面和所述热辐射退化图像,确定所述潜在清晰图像,包括:根据所述热辐射退化图像和所述贝塞尔曲面之差,得到第一差值图像;

对所述第一差值图像进行灰度拉伸,得到所述潜在清晰图像。

7.根据权利要求1所述的气动光学效应校正方法,其特征在于,所述根据所述潜在清晰图像,判断是否满足所述预设条件,包括:对所述潜在清晰图像进行双边滤波,确定估计偏置场;

根据所述贝塞尔曲面的第一初始化曲面次数和第二初始化曲面次数,判断是否满足阶数数值条件,其中,所述第一初始化曲面次数和所述第二初始化曲面次数为曲面次数的初始化数值;

若不满足,则根据所述估计偏置场判断是否满足所述预设条件。

8.根据权利要求7所述的气动光学效应校正方法,其特征在于,所述预设条件包括所述估计偏置场的最大值和最小值之差小于第一预设常数,且所述估计偏置场的极大值点的数目大于所述第一初始化曲面次数;所述若不满足所述预设条件,则更新所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像,返回至所述根据所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像进行贝塞尔曲面拟合,确定潜在清晰图像,并判断所述潜在清晰图像是否满足预设条件的步骤,包括:

若不满足所述预设条件,则利用降阶处理,对所述第一初始化曲面次数和所述第二初始化曲面次数进行更新;

判断当前迭代次数是否达到规定次数;

若未达到,将所述潜在清晰图像作为所述热辐射退化图像,将所述估计偏置场作为所述热辐射估计图像,返回至所述根据所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像进行贝塞尔曲面拟合,确定潜在清晰图像,并判断所述潜在清晰图像是否满足预设条件的步骤。

9.根据权利要求5所述的气动光学效应校正方法,其特征在于,所述根据所述基函数,确定所述贝塞尔曲面对应的曲面控制点,包括:根据下采样矩阵、所述基函数和所述曲面控制点,带入构建的贝塞尔曲面方程;

将所述下采样矩阵和所述参数化矩阵的各个参量带入所述构建的贝塞尔曲面方程,转化为多个线性方程式;

利用最小二乘法求解所述多个线性方程式,确定所述曲面控制点的各个坐标分量。

10.一种气动光学效应校正装置,其特征在于,包括:获取单元,用于获取热辐射退化图像;

处理单元,用于对所述热辐射退化图像进行滤波处理,确定热辐射估计图像;用于根据所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像进行贝塞尔曲面拟合,确定潜在清晰图像,并判断所述潜在清晰图像是否满足预设条件;还用于若不满足所述预设条件,则更新所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像,返回至所述根据所述热辐射退化图像和所述热辐射估计图像进行贝塞尔曲面拟合,确定潜在清晰图像,并判断所述潜在清晰图像是否满足预设条件的步骤;

输出单元,用于若满足所述预设条件,则输出所述潜在清晰图像。