1.一种熟化箱，其特征在于，所述的熟化箱包括：

第一箱体(100)，所述第一箱体(100)围合形成安装腔(101)；

第二箱体(200)，所述第二箱体(200)围合形成加热腔(201)，所述第二箱体(200)的数量为多个，多个所述第二箱体(200)沿所述安装腔(101)的竖直方向相对设置；

加热盘组件(300)，所述加热盘组件(300)设置于多个所述第二箱体(200)的所述加热腔(201)内；

微波发生组件(400)，所述微波发生组件(400)的数量为多个，多个所述微波发生组件(400)分别设置在多个所述第二箱体(200)上。

2.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述加热盘组件(300)包括多个加热盘(310)，多个所述加热盘(310)可移动地插设于所述加热腔(201)的腔壁，相邻两个所述加热盘(310)之间的距离范围为30mm～100mm。

3.根据权利要求2所述的熟化箱，其特征在于，所述加热盘(310)上设有容腔(3101)，所述加热盘(310)的底壁沿所述容腔(3101)方向上还设有凸台(3102)。

4.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述第二箱体(200)的侧壁与所述加热盘组件(300)的侧壁的距离范围为10mm～50mm；和/或，所述第二箱体(200)的底壁和/或顶壁与所述加热盘组件(300)的距离范围为50mm～

160mm。

5.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述第一箱体(100)与所述第二箱体(200)的体积比例为2:1～10:1。

6.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述加热腔(201)的长度范围为300mm～

1000mm；和/或

所述加热腔(201)的宽度范围为300mm～1000mm；和/或所述加热腔(201)的高度范围为200mm～1000mm。

7.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述微波发生组件(400)包括多个磁控装置(410)，多个所述磁控装置(410)交错设置于所述加热腔(201)的顶壁上。

8.根据权利要求7所述的熟化箱，其特征在于，所述微波发生组件(400)与所述加热盘组件(300)的距离为70mm～900mm。

9.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，相邻两个所述第二箱体(200)的距离值范围为50mm～200mm。

10.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述第一箱体(100)与所述第二箱体(200)之间的距离值范围为50mm～200mm。