1.一种具有泥水分离功能的化学清洗槽，包括支撑板以及化学清洗槽，其特征在于，化学清洗槽位于支撑板上方，化学清洗槽上设有泥水分离结构；

泥水分离结构包含有：一对支架、电机、旋转臂、配重块、脱水桶、安装架、滤芯、固定组件以及排水组件；

一对支架底端安装在支撑板上壁面上，一对支架顶端安装在化学清洗槽下壁面上，电机安装在化学清洗槽下壁面上，旋转臂安装在电机驱动端上，旋转臂位于支撑板和化学清洗槽之间，配重块安装在旋转臂左端，脱水桶通过固定组件安装在旋转臂右壁面上，安装架安装在脱水桶内，滤芯安装在安装架上，滤芯位于脱水桶内，化学清洗槽下方设有排水组件。

2.根据权利要求1所述的一种具有泥水分离功能的化学清洗槽，其特征在于，固定组件包含有：一对U形固定槽、一对固定轴以及一对卡簧；

一对U形固定槽位于旋转臂前壁面和后壁面上，一对固定轴放置在一对U形固定槽内，一对固定轴安装在脱水桶前壁面和后壁面上，脱水桶位于化学清洗槽和支撑板之间，一对卡簧安装在一对固定轴上。

3.根据权利要求1所述的一种具有泥水分离功能的化学清洗槽，其特征在于，排水组件包含有：排水管以及排水阀；

化学清洗槽下壁面开设有排水口，排水管安装在化学清洗槽下壁面开设的排水口处，排水管位于脱水桶上方，排水管直径小于滤芯直径，排水阀安装在排水管上。

4.根据权利要求3所述的一种具有泥水分离功能的化学清洗槽，其特征在于，排水管和化学清洗槽之间设有用于密封的密封圈，支撑板下方设有用于减震的减震座。

5.根据权利要求1所述的一种具有泥水分离功能的化学清洗槽，其特征在于，旋转臂为Y形旋转臂。

6.根据权利要求1所述的一种具有泥水分离功能的化学清洗槽，其特征在于，电机上设有保护的电机罩。