1.一种铁氧体基板清洗装置，其特征在于：包括：

清洗槽(1)，所述清洗槽(1)的上端面设置有盖体(2)，所述清洗槽(1)的内部底端固定连接有多个安装凹槽(3)，多个所述安装凹槽(3)的内部均插接有铁氧体基板(4)；

排水室(14)，所述排水室(14)固定连接于清洗槽(1)的底部，所述排水室(14)的上端面贯穿开设有多个均匀分布的漏水孔(18)，所述排水室(14)通过多个漏水孔(18)与清洗槽(1)的内部连通；

清洗装置，所述清洗装置安装于盖体(2)的底部内侧，用于对多个铁氧体基板(4)进行清洗。

2.根据权利要求1所述的一种铁氧体基板清洗装置，其特征在于：所述清洗装置包括滑槽(5)，所述滑槽(5)的左右两侧分别与盖体(2)的内壁左右两侧固定连接，所述滑槽(5)的背部滑动连接有齿板(6)，所述盖体(2)的上端面中心安装有电机(7)，所述电机(7)的输出端固定连接有转轴(8)，所述转轴(8)的下端面固定连接有齿轮(9)，所述齿轮(9)与齿板(6)啮合连接，所述齿板(6)的下端面固定连接有储水腔(10)，所述储水腔(10)的下端面安装有多个均匀分布的喷头(11)。

3.根据权利要求2所述的一种铁氧体基板清洗装置，其特征在于：所述盖体(2)的上端面左侧固定连接有导管口(12)，所述导管口(12)的内部插接有连接管(13)，所述连接管(13)通过导管口(12)贯穿盖体(2)与储水腔(10)连通，所述连接管(13)的另一端与外部水源连通。

4.根据权利要求1所述的一种铁氧体基板清洗装置，其特征在于：所述排水室(14)的外壁连通有排水口(15)，所述排水口(15)的外壁设置有阀门(16)。

5.根据权利要求1所述的一种铁氧体基板清洗装置，其特征在于：所述盖体(2)的背部通过合页(17)与清洗槽(1)活动连接。

6.根据权利要求1所述的一种铁氧体基板清洗装置，其特征在于：所述盖体(2)的上端面右侧设置有控制面板(19)。