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专利号: 2021224362866
申请人: 天津中益信达科技发展有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
更新日期:2025-04-19
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种气体分析仪的流量控制系统,包括装置本体(1),其特征在于:所述装置本体(1)设置有固定结构(2),所述固定结构(2)包括开设在装置本体(1)顶部的两个滑槽(201),两个所述滑槽(201)的内壁均滑动安装有滑块(202),两个所述滑块(202)的顶部均固定安装有支撑块(203),两个所述支撑块(203)顶部分别固定安装有第一固定块(204)和第二固定块(205),所述第一固定块(204)的外表面固定安装有多个插块(207),所述第二固定块(205)的外表面设置有多个凹槽(208),多个所述凹槽(208)的内壁均固定安装有支块(209),多个所述插块(207)的外表面均开设有方形槽(210),所述第一固定块(204)和第二固定块(205)的顶部均设置有卡和块(206)。

2.根据权利要求1所述的一种气体分析仪的流量控制系统,其特征在于:所述装置本体(1)顶部中心处设置有入气口,且入气口的外表面套设有软管,所述第一固定块(204)和第二固定块(205)的内壁均与软管的外表面相贴合。

3.根据权利要求1所述的一种气体分析仪的流量控制系统,其特征在于:多个所述方形槽(210)的内壁均与支块(209)的外表面相贴合,多个所述凹槽(208)的外表面均与插块(207)的外表面相贴合。

4.根据权利要求3所述的一种气体分析仪的流量控制系统,其特征在于:所述卡和块(206)共设置有三个,所述第一固定块(204)和第二固定块(205)的顶部均开设有与卡和块(206)相适配的通槽,三个所述卡和块(206)的外表面均与软管的内壁相贴合。

5.根据权利要求1所述的一种气体分析仪的流量控制系统,其特征在于:两个所述滑槽(201)的内壁设置有助滑结构(3),所述助滑结构(3)包括开设在两个滑槽(201)内壁的滑动槽(301),两个所述滑动槽(301)的内壁均嵌设有滑珠(302),两个所述滑块(202)的外表面均固定安装有方块(303)。

6.根据权利要求5所述的一种气体分析仪的流量控制系统,其特征在于:两个所述方块(303)的均与滑珠(302)的外表面相贴合。