1.一种磁场辅助激光抛光装置，其特征在于，包括：

机柜；

工作台，安装在所述机柜内，所述工作台具有工件定位区域，用于放置工件；

磁性机构，所述磁性机构用于使得所述工件处于磁场中；

激光系统，安装在所述机柜内，包括：用于使得所述工件表面预热的第一激光发射机构、用于对所述工件表面进行抛光处理的第二激光发射机构、以及用于对所述工件表面进行退火处理的第三激光发射机构；所述第一激光发射机构用于发射第一光束以使得所述工件的表面形成预热光斑，所述第二激光发射机构用于发射第二光束以使得所述工件的表面形成抛光光斑，所述第三激光发射机构用于发射第三光束以使得所述工件的表面形成退火光斑；所述预热光斑与所述抛光光斑之间、所述抛光光斑和所述退火光斑之间均具有重叠区；所述第一光束的功率为150W‑250W，所述第二光束的功率为20W‑50W，所述第三光束的功率为100W‑200W；所述预热光斑与所述抛光光斑之间的重叠率为30％‑50％，所述抛光光斑与所述退火光斑之间的重叠率为30％‑50％；所述磁性机构包括第一电磁结构和第二电磁结构，所述第一电磁结构和所述第二电磁结构分别设置于所述工件定位区的两侧；

第一电磁结构和第二电磁结构分别包括壳体，在壳体的内部设置有线圈，在壳体上设置有通电接头，线圈与通电接头连接，通电接头与电缆连接，通过为电缆与通电接头的配合为线圈通电；可通过改变电流大小或线圈到工件之间的距离来改变磁场的大小，线圈产生的磁场作用在工件上；

在工作台上设置有第一导向件，在第一磁性结构和第二磁性结构上设置有第二导向件，第一导向件和第二导向件配合安装，以使得第一磁性结构可沿第一导向件向远离或靠近第二磁性结构的方向移动，第二磁性结构可沿第一导向件向远离或开进第一磁性结构的方向移动，第一导向件对于第一磁性结构和第二磁性结构分别起到的导向作用；

第一磁性结构和第二磁性结构沿第一方向间隔放置，二者之间用于放置工件；

在密封舱外设置有驱动器，驱动器的输出端伸入到密封舱内与第一磁性机构和第二磁性机构中至少一者连接，以推动与其相连的第一磁性结构和/或第二磁性机构沿第一方向移动，驱动器的输出端的数量可为两个，其中一个与第一磁性机构连接，另一个与第二磁性机构连接，两个输出端之间通过传动机构传动连接，以使得驱动器启动时，两个输出端同时运转，以同时带动第一磁性机构和第二磁性机构向相反的方向移动以靠近或远离对方；驱动器的输出端与密封舱（20）的侧壁之间采用动密封与静密封结合的方式进行密封。

2.如权利要求1所述的磁场辅助激光抛光装置，其特征在于，所述第一激光发射机构和所述第二激光发射机构均包括连续激光器，所述第二激光发射机构包括脉冲激光器。

3.如权利要求1所述的磁场辅助激光抛光装置，其特征在于，还包括密封舱和供气机构，所述密封舱与所述供气机构之间通过气路连通，所述工作台位于所述密封舱内，所述供气机构用于通过气路向所述密封舱提供惰性气体。

4.如权利要求1所述的磁场辅助激光抛光装置，其特征在于，还包括控制器，所述控制器设置于所述机柜上，所述控制器分别与所述激光系统、所述磁性机构电连接。

5.如权利要求1所述的磁场辅助激光抛光装置，其特征在于，还包括水冷机，所述水冷机通过水管分别连接所述第一激光发射机构、所述第二激光发射机构和所述第三激光发射机构。

6.一种磁场辅助激光抛光方法，适用于如权利要求1‑5任一所述的磁场辅助激光抛光装置，其特征在于，包括：将工件安装至工作台的工件定位区域；

启动磁性机构，使得所述工件处于磁场中；

启动激光系统，使得第一激光发射机构发射第一光束以使得所述工件的表面形成预热光斑，使得第二激光发射机构发射第二光束以使得所述工件的表面形成抛光光斑，使得第三激光发射机构发射第三光束以使得所述工件的表面形成退火光斑，按照设定路径移动所述预热光斑、所述抛光光斑和所述退火光斑，以对所述工件进行抛光处理；所述预热光斑与所述抛光光斑之间、所述抛光光斑和所述退火光斑之间均具有重叠区；所述第一光束的功率为150W‑250W，所述第二光束的功率为20W‑50W，所述第三光束的功率为100W‑200W；所述预热光斑与所述抛光光斑之间的重叠率为30％‑50％，所述抛光光斑与所述退火光斑之间的重叠率为30％‑50％。

7.如权利要求6所述的磁场辅助激光抛光方法，其特征在于，所述第一光束的扫描速度、所述第二光束的扫描速度与所述第三光束的扫描速度相同，均为20mm/s‑60mm/s。

8.如权利要求6所述的磁场辅助激光抛光方法，其特征在于，在所述启动激光系统的步骤前，还包括：

打开供气机构，以使得所述供气机构内的惰性气体进入密封舱，和/或

打开水冷机，以对所述第一激光发射机构、所述第二激光发射机构和所述第三激光发射机构进行冷却处理。