1.铜制齿轮淬火感应传感器陶瓷镀层，其特征在于：以薄膜热膨胀系数递减为顺序，依次沉积Cu‑Ti‑Zr薄膜、Ti‑Zr薄膜与(Ti,Zr)N+(Zr,Ti)N薄膜，形成纳米结构多层膜材料作为镀层，所述薄膜厚度为2.5μm‑10μm。

2.根据权利要求1所述的铜制齿轮淬火感应传感器陶瓷镀层，其特征在于：所述的Cu‑Ti‑Zr薄膜为复合膜结构，Cu‑Ti‑Zr复合膜包括fcc‑Cu、hcp‑Ti及hcp‑Zr三相结构，Cu、Ti、Zr的原子百分含量依次为41.7％、41.2％与17.1％；所述Cu‑Ti‑Zr复合膜经600℃‑700℃真空退火后诱发Cu‑Ti‑Zr层与衬底间的扩散，并在层内/间形成Cu4Ti3与Cu4Ti相。

3.根据权利要求1所述的铜制齿轮淬火感应传感器陶瓷镀层，其特征在于：所述的Cu‑Ti‑Zr薄膜、Ti‑Zr薄膜组成多层膜结构，Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr多层膜中包括fcc‑Cu、hcp‑Ti及hcp‑Zr三相结构，Cu、Ti、Zr的原子百分含量依次为15.2％、60.6％与24.2％；所述Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr多层膜经700℃‑800℃真空退火后诱发层内/间的扩散，并在层内/间形成Cu4Ti3、Cu4Ti、Cu3Ti、Cu10Zr7与ZrCu相。

4.根据权利要求1所述的铜制齿轮淬火感应传感器陶瓷镀层，其特征在于：所述的Cu‑Ti‑Zr薄膜、Ti‑Zr薄膜与(Ti,Zr)N+(Zr,Ti)N薄膜组成多层膜结构，Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr/(Ti,Zr)N+(Zr,Ti)N多层膜中包括fcc‑Cu、hcp‑Ti、hcp‑Zr、fcc‑TiN与fcc‑ZrN五相结构，Cu、Ti、Zr、N的原子百分含量依次为16.1％、48.3％、18.3％与17.3％；所述Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr/(Ti,Zr)N+(Zr,Ti)N多层膜经800℃‑900℃真空退火后诱发层内/间的扩散，并在层内/间形成Cu4Ti3、Cu4Ti、Cu3Ti、Cu10Zr7与ZrCu相。

5.根据权利要求1所述的铜制齿轮淬火感应传感器陶瓷镀层，其特征在于：该镀层薄膜材料在经过高真空退火处理以后，薄膜的膜基结合力由退火之前的4.262N提升到了退火后的20N以上。

6.铜制齿轮淬火感应传感器陶瓷镀层的制备方法，其特征在于：包括下述步骤：

1)利用多靶共聚焦非平衡磁控溅射制备不同Cu含量的Cu‑Ti‑Zr复合薄膜，获得Cu‑Ti‑Zr薄膜材料与Cu靶的溅射功率；在Cu‑Ti‑Zr薄膜的基础上固定Ti靶与Zr靶的功率不变，关闭Cu靶挡板，控制第二层Ti‑Zr薄膜的沉积时间，制备Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr多层膜；获得Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr多层薄膜材料与第二层Ti‑Zr薄膜的沉积时间；固定Ti、Zr靶功率不变，在Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr多层膜上通入氮气，生成Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr/(Ti,Zr)N+(Zr,Ti)N多层膜材料；

2)将衬底Cu先后用水、丙酮、无水乙醇超声清洗5min‑10min，吹干后固定在溅射室可旋转的基片台上，关闭样品挡板，将纯度为99.9％的Ti靶、Cu靶与Zr靶分别固定在磁控溅射仪的三个射频枪上；

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3)将溅射室的气压抽至6.0×10 Pa以下，通入纯度为99.999％的氩气，流量控制为

10sccm，溅射室气压保持在0.25Pa；

4)关闭样品挡板，调节Ti靶、Cu靶与Zr靶功率均为50W，溅射5min‑10min以清洗靶材表面杂质；

5)通入氩气使溅射室气压保持在0.3Pa，调节Ti靶功率为150W，Zr靶功率60W，打开样品挡板，样品旋转速度保持为6r/min，调节Cu靶功率为步骤(1)获得的溅射功率，沉积Cu‑Ti‑Zr复合膜，时间为2h；沉积结束后，固定Ti靶与Zr靶功率不变，关闭Cu靶挡板，控制第二层Ti‑Zr薄膜的沉积时间，在Cu‑Ti‑Zr薄膜上继续沉积Ti‑Zr薄膜，沉积时间分别为1h、2h、3h、

4h、5h；沉积结束后，固定Ti、Zr靶功率不变，关闭样品挡板，通入纯度为99.999％的氮气，流量控制分别为0.1sccm、15min；0.5sccm、20min；1sccm、25min；2sccm、30min；3sccm、40min，溅射室气压保持在0.3Pa，氩氮气体流量比随着氮气流量的增大而变化最终氩氮比为10:3，打开样品挡板，在Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr多层膜上继续沉积(Ti,Zr)N+(Zr,Ti)N薄膜，时间为

2h10min；获得Cu‑Ti‑Zr/Ti‑Zr/(Ti,Zr)N+(Zr,Ti)N多层膜材料镀层。